SMC代理商上海達(dá)朋銷售：SMC 吸著痕跡對(duì)策吸盤 ZP2、SMC氣缸代理、SMC電磁閥代理、SMC電缸代理、SMC流體閥代理、SMC藥液閥代理、SMC空氣過(guò)濾代理、SMC減壓閥代理、SMC三聯(lián)件代理、SMC兩聯(lián)件代理、SMC氣管代理、SMC接頭代理、SMC比例閥代理等全系列SMC元件。

SMC 是全球性的氣動(dòng)元件制造商，公司成立于1959年，總部位于日本東京。

起初，SMC 是一家以粉末冶金法制造“燒結(jié)金屬工業(yè)過(guò)濾器"濾芯為主的公司，經(jīng)過(guò)幾十年的不斷努力與創(chuàng)新，SMC 的產(chǎn)品種類逐漸豐富，并依靠?jī)?yōu)秀的品質(zhì)得到了無(wú)數(shù)用戶的信賴。如今 SMC 已發(fā)展成一家全球規(guī)模的氣動(dòng)企業(yè)，公司早期設(shè)立的名稱“SMC"（Sintered Metal Company，意為“燒結(jié)金屬公司"）由于已在世界享有多年盛譽(yù)而被沿用至今，成為了全球統(tǒng)一的公司名稱。

SMC 的產(chǎn)品現(xiàn)已多達(dá)12,000種基本型元件、700,000個(gè)規(guī)格，廣泛應(yīng)用在各個(gè)領(lǐng)域的自動(dòng)化生產(chǎn)中。

SMC 的“氣動(dòng)控制技術(shù)"正廣泛應(yīng)用于汽車、半導(dǎo)體、電子、機(jī)床、食品、包裝、印刷、醫(yī)療、制藥、紡織等基礎(chǔ)工業(yè)領(lǐng)域中。通過(guò)氣動(dòng)技術(shù)與SMC技術(shù)的融合，即使是在新一代信息技術(shù)、機(jī)器人、航空航天、新能源、智能制造等產(chǎn)業(yè)中，氣動(dòng)技術(shù)也有著無(wú)限發(fā)展的可能。在半導(dǎo)體工程、液晶制造、生物醫(yī)藥、醫(yī)療器械等高新技術(shù)領(lǐng)域，SMC 的產(chǎn)品大顯身手，氣動(dòng)技術(shù)正在不斷擴(kuò)大新的應(yīng)用領(lǐng)域。

氣缸處于靜止?fàn)顟B(tài)，從無(wú)桿側(cè)和有桿側(cè)交替輸入使用壓力和最高使用壓力，從活塞處（稱為內(nèi)泄露）及活塞桿和管接頭處（稱為外泄漏）的泄漏流量稱為泄漏量。

合格氣缸的泄漏量都應(yīng)小于JIS B 837標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的指標(biāo)。外泄漏不得大于3±0.15dmL/min（ANR），內(nèi)泄漏量不得大于3±0.15DmL/min（ANR）。式中，缸徑D和桿徑d都以mm計(jì)。

氣缸的選用在氣動(dòng)使用中經(jīng)常涉及到，下面是氣缸的選型方法和選型步驟。

1、預(yù)選氣缸的缸徑

根據(jù)氣缸的負(fù)載狀態(tài)，確定氣缸的軸向負(fù)載力F。

根據(jù)負(fù)載的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，預(yù)選氣缸的負(fù)載率η。

根據(jù)氣源供氣條件，確定氣缸的使用壓力P。P應(yīng)小于減壓閥進(jìn)口壓力的85%。

已知F，η和P，對(duì)單作用氣缸，預(yù)設(shè)桿徑與缸徑之比d/D=0.5，根據(jù)前面所述氣缸理論力的計(jì)算公式和負(fù)載率計(jì)算公式，便可選定缸徑D；對(duì)雙作用氣缸，同樣使用前面所述氣缸理論力的計(jì)算公式和負(fù)載率計(jì)算公式，便可選定缸徑D。缸徑D的尺寸應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)化。

 2、預(yù)選氣缸行程

根據(jù)氣缸的操作距離及傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的行程比來(lái)預(yù)選氣缸的行程。為便于安裝調(diào)試，對(duì)計(jì)算出的行程要留有適當(dāng)余量。應(yīng)盡量選為標(biāo)準(zhǔn)行程，可保證供貨速度，成本降低。

 3、選擇氣缸的品種

根據(jù)氣缸承擔(dān)任務(wù)的要求來(lái)選擇氣缸的品種。例如要求氣缸到達(dá)行程終端無(wú)沖擊現(xiàn)象和撞擊噪聲，應(yīng)選緩沖氣缸；如要求重量輕，應(yīng)選輕型缸；要求安裝空間窄且行程短，可選薄型缸；有橫向負(fù)載，可選帶導(dǎo)桿氣缸；要求制動(dòng)精度高，應(yīng)選鎖緊氣缸；不允許活塞桿旋轉(zhuǎn)，可選具有桿不回轉(zhuǎn)功能的氣缸；除活塞桿作直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)外，還需缸體做擺動(dòng)，可選耳軸式或耳環(huán)式安裝方式的氣缸等。下圖是SMC氣缸主要特征表，選型時(shí)可以參照。 

SMC 吸著痕跡對(duì)策吸盤 ZP2