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浙江 殺菌劑加藥裝置
在金屬與金屬之間連接的縫隙處,水垢及微生物泥垢、泥沙等沉積物下的金屬表面,由于水的對流不暢使氧貧化,也會造成類似的腐蝕。特別是水垢等沉積物下的腐蝕,由于腐蝕產(chǎn)物被沉積物覆蓋住,循環(huán)水顯得清澈透明,給人以金屬未遭到腐蝕的假象。當(dāng)腐蝕嚴(yán)重到一定程度時,腐蝕產(chǎn)物連同污垢一起脫落,堵住系統(tǒng)管徑較細(xì)的部位。此時再想采取水處理措施已太晚,因為某些腐蝕嚴(yán)重的部位金屬本體層已很薄,若用化學(xué)清洗或其他方法去除污垢后很可能造成系統(tǒng)漏水。由于腐蝕產(chǎn)物的阻擋,水中的溶解氧到達(dá)這個腐蝕點的速度減慢,形成腐蝕點四周的氧濃度大于腐蝕點的氧濃度,這樣,腐蝕點的四周便成為陰極,腐蝕點本身成為陽極,腐蝕繼續(xù)進(jìn)行(此即為氧濃差梯度腐蝕)。
浙江 殺菌劑加藥裝置
或者通過對現(xiàn)場的排污量和補水量的計量,按一定的比例關(guān)系來進(jìn)行藥劑的投加。由于系統(tǒng)容積很大,分析數(shù)據(jù)的滯后性、分析頻率的有限性以及系統(tǒng)存在泄漏等問題,要將水穩(wěn)劑的濃度穩(wěn)定控制在工業(yè)指標(biāo)范圍內(nèi),還存在著一定的困難。針對以上問題和用戶要求,我們公司設(shè)計了利用熒光示蹤技術(shù)投加水處理劑方案,它采用*示蹤技術(shù)進(jìn)行自動加藥。當(dāng)您使用該裝置時,只要把我們生產(chǎn)的示蹤劑加入到貴廠現(xiàn)場使用的水穩(wěn)藥劑中去,您的藥劑成了示蹤型水處理藥劑。操作時只需將循環(huán)水的回水引入控制儀的采樣水進(jìn)口,此時水中的藥劑有效成份隨時被熒光示蹤儀所監(jiān)測,同時在儀表顯示屏上顯示,并得到有效的控制。
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