首頁(yè) >> 供求商機(jī)
貨物所在地:浙江杭州市
更新時(shí)間:2024-09-13 21:00:06
瀏覽次數(shù):171
在線詢價(jià)收藏產(chǎn)品( 聯(lián)系我們,請(qǐng)說(shuō)明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>
JSM-IT500掃描電子顯微鏡
非凡性能
■ 利用 Zeromag 進(jìn)行快速導(dǎo)航
■ Live Analysis在圖像觀察過(guò)程中進(jìn)行實(shí)時(shí)分析
■ SMILE VIEW LAB 能綜合管理 SEM 圖像 & EDS 分析數(shù)據(jù)
■ 安全、簡(jiǎn)便 的樣品交換導(dǎo)航
日常分析更迅速!更簡(jiǎn)便 !
從安裝樣品到生成報(bào)告,實(shí)時(shí)分析軟件使分析過(guò)程無(wú)縫連貫,作業(yè)速度更快,操作更加簡(jiǎn)便。
■ Zeromag
從樣品架示意圖或者CCD圖像上尋找視野和分析位置。
可以快速地尋找視野 , 簡(jiǎn)便地預(yù)約多個(gè)視野連續(xù)分析的位置。
■ Live Analysis ( 實(shí)時(shí)分析)
觀察過(guò)程中的 EDS 分析
在觀察過(guò)程中可以隨時(shí)實(shí)時(shí)顯示分析區(qū)域內(nèi)的特征 X 射線譜圖、自動(dòng)定性分析結(jié)果和主要構(gòu)成元素。
還可以標(biāo)記“Alert”到感興趣的元素上。
■ 數(shù)據(jù)集中管理軟件 SMILE VIEWTM Lab
通過(guò)數(shù)據(jù)管理圖標(biāo)或獲取的數(shù)據(jù)一覽,顯示數(shù)據(jù)管理畫(huà)面后,可以重新查看或再次分析數(shù)據(jù),還可以一鍵生成報(bào)告。
利用用戶日志也可以分別管理數(shù)據(jù)。由于數(shù)據(jù)相互聯(lián)動(dòng),進(jìn)行重構(gòu)也很簡(jiǎn)單。
實(shí)現(xiàn)了光學(xué)圖像和 SEM 圖像的整合
■ Zeromag
新功能尋找視野非常容易
順利到達(dá)高倍率觀察
新功能 Zeromag 將與樣品臺(tái)位置相關(guān)聯(lián)的樣品臺(tái)示意圖、CCD 圖像和 SEM 圖像實(shí)現(xiàn)了聯(lián)動(dòng),可以從光學(xué) CCD 圖像無(wú)縫過(guò)渡到 SEM 圖像,大幅度地提高了工作效率。
Zeromag 的特點(diǎn)
? 從光學(xué)圖像無(wú)縫過(guò)渡到 SEM 圖像
? 可以在樣品上預(yù)先選擇多個(gè)分析點(diǎn)
? 可以輕松回溯到已測(cè)試過(guò)的區(qū)域以作進(jìn)一步的研究
蒙太奇
利用 Zeromag 可以自動(dòng)簡(jiǎn)便地進(jìn)行大區(qū)域觀察及分析
蒙太奇是識(shí)別大區(qū)域上的異物和進(jìn)行斷裂面分析等在大區(qū)域上獲取詳細(xì)信息的有效功能。
使用 Zeromag 功能 , 能很容易地選擇大面積的蒙太奇視野,同時(shí)還有內(nèi)置的“傾斜校正”、
“設(shè)定重疊視野”及“設(shè)定自動(dòng)聚焦點(diǎn)”功能。
SM-IT500 是一款革命性的掃描電鏡,它只需很少的步驟就能獲取高倍率圖像。
● 二次電子圖像
利用高真空二次電子像觀察鐵銹的表面,在高倍率下可以觀察到細(xì)微的表面形貌。
● 背散射電子圖像
下圖是硬質(zhì)合金截面的背散射電子成分像,在低電壓的背散射電子模式下可以觀察每個(gè)碳化鎢顆粒的晶體取向(通道襯度)差異。
● 選擇掃描系統(tǒng)可獲取畫(huà)質(zhì)更好的低加速電壓圖像
可以選擇快速幀累積的掃描系統(tǒng)來(lái)減少樣品的放電現(xiàn)像。因此 ,即使在低加速電壓下觀察容易荷電或易受電子束損傷的樣品,也能容易地獲取高倍率圖像。
低真空模式
在物鏡附近進(jìn)行差動(dòng)抽氣顯著提高了低真空模式下的圖像質(zhì)量。此外,低真空模式的*壓力可高達(dá) 650 Pa, 進(jìn)一步擴(kuò)大了應(yīng)用范圍。
超低真空?qǐng)D像
含有大量水分的軟樣品會(huì)因?yàn)闃悠肥覂?nèi)的壓力而無(wú)法保持原有的結(jié)構(gòu)。從前對(duì)這樣的樣品不進(jìn)行特殊處理就無(wú)法觀察。當(dāng)?shù)驼婵諌毫Ψ秶鷶U(kuò)展到 650 Pa 時(shí),即使沒(méi)有特殊處理也可以在對(duì)樣品損傷很小的情況下進(jìn)行觀察。
低真空二次電子圖像
盡管在低真空模式下,通過(guò)低真空二次電子像也可以清晰地觀察到樣品表面的細(xì)節(jié)。
測(cè)量功能
備有多種測(cè)量功能。
測(cè)量
利用該功能可以在觀察界面上測(cè)量距離、角度、面積等,結(jié)果能記錄和保存在 SEM 圖像上。
3D 成像
備有兩種 3D 成像的軟件。
● 立體圖像
按照指示拍攝兩張 SEM 照片,就可以制作立體圖像。即使沒(méi)有專門(mén)的軟件,只要用紅藍(lán)眼鏡就可以確認(rèn)到樣品的表面形貌。
● 3D 圖像測(cè)量
特定的 3D 測(cè)量軟件。可用兩張 SEM 照片制作 3D 圖像。 還可以用 3D 圖像測(cè)量樣品表面形貌。
無(wú)縫式操作 SEM 和 EDS
■ Live Analysis ( 實(shí)時(shí)分析 )
觀察過(guò)程中實(shí)時(shí)顯示元素分析結(jié)果
利用 Live Analysis 功能可以隨時(shí)在觀察界面上顯示分析區(qū)域內(nèi)的特征 X 射線譜圖以及自動(dòng)定性的主要構(gòu)成元素。通過(guò)此功能可以發(fā)現(xiàn)感興趣的元素和一些意想不到的元素。
Live Analysis(實(shí)時(shí)分析)的特點(diǎn)
? 隨時(shí)顯示特征 X 射線譜圖
?通過(guò)顯示樣品的主要元素
?對(duì)感興趣的元素顯示“Alert”
SEM 觀察界面
在 SEM 觀察界面上可以確認(rèn)到正在觀察的譜圖和主要元素。
各個(gè)分析區(qū)域都與對(duì)應(yīng)的樣品臺(tái)坐標(biāo)關(guān)聯(lián),并且顯示在樣品架示意圖上或者 CCD 圖像 上。
● EDS
X 射線能譜儀 (EDS) 是安裝在掃描電鏡 (SEM) 的附件,通過(guò)檢測(cè)電子束照射時(shí)樣品產(chǎn)生的特征 X 射線,從而進(jìn)行元素分析。
詳細(xì)分析顯示界面
切換到詳細(xì)分析顯示界面后可以進(jìn)行譜圖解析以及元素面分布分析等。
即使在分析期間,也可以從已經(jīng)獲取的數(shù)據(jù)中生成報(bào)告。
● 重返分析區(qū)域
分析區(qū)域內(nèi)的樣品臺(tái)位置和放大倍率與分析數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)。
在 SEM 觀察界面上可以重新回溯到任一分析區(qū)域做進(jìn)一步測(cè)試。
● 導(dǎo)航
可以預(yù)先選取多個(gè)區(qū)域進(jìn)行自動(dòng)的連續(xù)分析。導(dǎo)航可以通過(guò)電子束追蹤探測(cè)到由于視野移動(dòng)而造成的微小的圖像漂移,從而準(zhǔn)確地重新定位分析區(qū)域。
定性 & 定量分析
在 SEM 觀察界面上直接點(diǎn)擊想要分析的位置就能定位分析區(qū)域。
使用 Zeromag 功能在多個(gè)視野區(qū)域定位多個(gè)分析區(qū)域,能簡(jiǎn)便地進(jìn)行連續(xù)分析。
識(shí)別構(gòu)成元素
● 定性分析
在觀察過(guò)程中進(jìn)行自動(dòng)定性分析。雙擊小峰識(shí)別相對(duì)應(yīng)的元素。
能譜采集的過(guò)程中也可以進(jìn)行元素的標(biāo)定。
● 定位區(qū)域類(lèi)型
分析區(qū)域的定位方法除了有“點(diǎn)”、“區(qū)域”外,還有能根據(jù)圖像強(qiáng)度差異來(lái)定位的“顆粒”等方法。
元素面分布圖(Elemental map)
元素面分布圖可以從整個(gè)觀察界面或觀察界面內(nèi)定位的區(qū)域上獲取。由于每個(gè)像素點(diǎn)上都保存了能譜信息,因此不需要在測(cè)定前定位元素就可以采集元素面分布圖,在獲取數(shù)據(jù)后也可以添加或者修改元素。此外,在數(shù)據(jù)采集期間還可以實(shí)時(shí)顯示 net map。
顯示選定區(qū)域的元素分布
● 強(qiáng)度面分布圖 (Intensity map)
顯示定位能區(qū)的 X 射線強(qiáng)度分布。從全區(qū)域面分布圖可以獲取整個(gè)區(qū)域的 X 射線強(qiáng)度分布,從區(qū)域面分布圖可以獲取定位區(qū)域的 SEM 圖像和元素面分布圖。
提高元素面分布圖的準(zhǔn)確性
● 實(shí)時(shí)凈計(jì)數(shù)面分布圖
凈計(jì)數(shù)面分布圖可以分開(kāi)每個(gè)像素點(diǎn)的譜峰,并且顯示的元素面分布圖消除了相近峰之間的影響。相比之下,計(jì)數(shù)面分布圖不可避免地反映了靠近定位元素的其他元素峰的強(qiáng)度。即使樣品含有不同元素,凈計(jì)數(shù)面分布圖也可以實(shí)時(shí)顯示固有強(qiáng)度的元素面分布圖。
● 強(qiáng)度面分布圖 (Intensity map) 與定量面分布圖
(Quantitative map) 的比較Cd-Lβ(3.313 keV) 的譜峰、Cd-Lβ2(3.528 keV) 的譜峰和 Sn-Lα 的譜峰都彼此非常接近,因此在強(qiáng)度面分布圖中很難將 Cd 從 Sn 的峰中分開(kāi)。通過(guò)定量面分布圖可以確認(rèn) Sn 元素原有的分布。
● 定量面分布圖(Quantitative map)
定量面分布圖對(duì)凈計(jì)數(shù)面分布圖添加了修正計(jì)算,用定量值來(lái)顯示面分布圖。除了凈計(jì)數(shù)面分布圖之外,定量值用圖像對(duì)比度來(lái)顯示固有強(qiáng)度的元素面分布圖。
利用元素面分布圖進(jìn)行實(shí)時(shí)分析
● 彈出譜(Pop-up spectrum)
在元素面分布圖或 SEM 像中特指任意區(qū)域后,即使在采集元素面分布圖的過(guò)程中也可以定性或定量分析能譜信息。如果某個(gè)區(qū)域沒(méi)有在特指的元素面分布圖中出現(xiàn),則會(huì)顯示出此區(qū)域的能譜,因而就可以確認(rèn)是否有遺漏的元素。
明確元素的位置
● 疊加顯示多色元素面分布圖
對(duì)任意的元素面分布圖特指顏色后,可以實(shí)時(shí)和 SEM 像疊加顯示。如果多個(gè)元素重疊在同個(gè)區(qū)域,則會(huì)顯示出復(fù)合色。
能快速確認(rèn)元素的分布
● 實(shí)時(shí)過(guò)濾
在面分布采集過(guò)程中進(jìn)行圖像處理可以提高圖像的信噪比。因此,只要使用實(shí)時(shí)過(guò)濾,即使在短時(shí)間內(nèi)也可以確認(rèn)到很清晰的元素分布。
直接生成報(bào)告
■ 數(shù)據(jù)統(tǒng)一管理軟件 SMILE VIEW TM Lab
SMILE VIEW TM Lab 是一個(gè)*集成的數(shù)據(jù)管理軟件,對(duì)與樣品臺(tái)坐標(biāo)關(guān)聯(lián)的 CCD 圖像、SEM 圖像、EDS 分析結(jié)果等數(shù)據(jù)能進(jìn)行統(tǒng)一管理,可以快速生成報(bào)告。
SMILE VIEW TM Lab 數(shù)據(jù)管理界面
在 SMILE VIEW TM Lab 數(shù)據(jù)管理界面上能對(duì)所有數(shù)據(jù)進(jìn)行集中管理。該管理器里保存的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)了觀察位置、觀察 & 分析結(jié)果和通過(guò)樣品臺(tái)示意圖或 CCD 圖像獲取的低放大倍率圖像。因而可以輕松回顧或重新分析已經(jīng)采集的數(shù)據(jù),還可以將結(jié)果反映到報(bào)告里。
SMILE VIEW TM Lab 的特點(diǎn)
?統(tǒng)一管理 CCD 圖像數(shù)據(jù)、SEM 圖像數(shù)據(jù)、EDS 分析結(jié)果。
?可以瞬間掌握每個(gè)視野的數(shù)據(jù)。
?支持各種數(shù)據(jù)搜索。
自動(dòng)布局功能
SEM 圖像與譜圖或面分布等信息相互聯(lián)動(dòng),所以只要選擇一個(gè)數(shù)據(jù)相關(guān)所有數(shù)據(jù)都會(huì)在報(bào)告書(shū)里自動(dòng)布局。如果數(shù)據(jù)太大,會(huì)自動(dòng)排版添加頁(yè)面。此外,需要更改布局時(shí),一鍵即可切換所有相關(guān)信息。
交換樣品的操作簡(jiǎn)便 & 大型分析樣品室
■ 安全、簡(jiǎn)便的樣品交換導(dǎo)航 !
引導(dǎo)從進(jìn)樣到觀察的操作
樣品交換根據(jù)導(dǎo)航流程進(jìn)行。從打開(kāi)樣品室到開(kāi)始觀察樣品為止,引導(dǎo)用戶正確操作,保證可以進(jìn)行得既安全又簡(jiǎn)便。
● 交換樣品很安全
按照導(dǎo)航流程對(duì)樣品室泄真空時(shí),樣品臺(tái)會(huì)自動(dòng)回到樣品交換位置,可以簡(jiǎn)單、快速地交換樣品。安裝樣品之前可以使用測(cè)試治具確認(rèn)高度。
● 內(nèi)置菜譜功能,可以自動(dòng)設(shè)置觀察條件。
在輸入樣品高度后的抽真空過(guò)程中,按照導(dǎo)航流程可以獲取 CCD 圖像, 觀察視野和使用菜譜功能設(shè)置觀察條件。
■ 樣品導(dǎo)航
可以方便地移動(dòng)到目標(biāo)位置
● 樣品架示意圖
通過(guò)樣品架示意圖可以一目了然地確認(rèn)樣品位置。同時(shí),隨著樣品的傾斜或旋轉(zhuǎn)隨時(shí)顯示當(dāng)前的位置,可以直觀地確認(rèn)樣品的位置。
● 樣品臺(tái)導(dǎo)航系統(tǒng)(SNS)
獲取樣品的彩色圖片后,雙擊就可以定位觀察位置。顯示在 Zeromag 屏幕上再搜索樣品區(qū)域,操作會(huì)更加順利。
■ 樣品交換
*樣品尺寸 : 直徑 200 mm.
*樣品高度 : 90 mm
Draw-out 方式
雖然有些樣品由于形狀、大小等原因很難安裝,但是只要利用快速抽真空系統(tǒng)才能實(shí)現(xiàn)的 Draw-out 方式,從大樣品室門(mén)里可以輕松安裝樣品。只需輕輕一觸即可開(kāi)啟和關(guān)
閉樣品室門(mén),這種方式可以支持各種形狀的樣品。
● 與抽真空結(jié)束的同時(shí),會(huì)立即顯示目標(biāo)區(qū)域的“放大倍率圖像”
抽真空結(jié)束并進(jìn)行以下步驟,
?定位目標(biāo)觀察區(qū)域
?設(shè)置觀察條件
?調(diào)整圖像之后會(huì)顯示“放大倍率圖像”。
安全機(jī)制
● 輸入樣品高度
標(biāo)配的樣品臺(tái)安全機(jī)構(gòu)根據(jù)樣品高度和用戶輸 入的高度而工作。即使是形狀復(fù)雜的樣品也能 夠安全地進(jìn)行觀察與分析。
● 樣品室觀測(cè)裝置(CS)
用安裝在樣品室側(cè)面的相機(jī)能查看 樣品和探測(cè)器及物鏡的位置關(guān)系。 樣品室觀測(cè)裝置支持觀察形貌復(fù)雜 的樣品。
■ 多用途樣品室
可安裝多種附件
多用途樣品室共有 11 個(gè)接口,各探測(cè)器的位 置都經(jīng)過(guò)了優(yōu)化設(shè)計(jì)。EDS、EBSD、WDS 可以在同一工作距離下(10 mm)進(jìn)行分析。兩個(gè) EDS 接口和 EBSD 接口是同軸配置的, 與樣品臺(tái)的傾斜軸垂直。因此 EDS 和 EBSD 可以同步分析,雙 EDS 可以相向安裝。
■ 高速、高精度的馬達(dá)樣品臺(tái) & 高速抽真空系統(tǒng)
可安裝多種附件
JSM-IT500 標(biāo)配了高速、高精度的 5 軸馬達(dá)樣品臺(tái),并且*載重量為 2 公斤。
快速抽真空的大型樣品室
樣品室抽真空大約需要 2 分 50 秒。新設(shè)計(jì)的真空系統(tǒng)使抽真空速度大大提高,可以在短時(shí)間內(nèi)對(duì)大容量樣品室抽真空。同時(shí),通過(guò)渦輪分子泵和前置阱實(shí)現(xiàn)了清潔的真空環(huán)境。
JSM-IT500掃描電子顯微鏡技術(shù)參數(shù)規(guī)格
4 種配置 : BU ( 基本單元 ) / A ( 元素分析 ) / LV ( 低真空 ) / LA ( 低真空 & 元素分析 ).
分辨率 | 高真空模式 3.0 nm (30 kV), 15.0 nm (1.0 kV) |
低真空模式4.0 nm (30 kV, BED) | |
放大倍率 | ×5 to ×300,000 ( 以 128 mm × 96 mm 的顯示尺寸規(guī)定放大倍率 ) |
顯示倍率 | ×14 ~ ×839,724 ( 顯示器上 以 358 mm × 269 mm 的尺寸規(guī)定放大倍率 ) |
電子槍 | 鎢燈絲 , 全自動(dòng)電子槍合軸 |
加速電壓 | 0.3 kV ~ 30 kV |
探針電流 | 1 pA ~ 1 μA |
低真空壓力設(shè)定范圍 | 1 10 ~ 650 Pa |
物鏡光闌 3 檔 | 帶有 XY 微調(diào)功能 |
自動(dòng)功能 | 燈絲調(diào)整,電子槍合軸, |
自動(dòng)聚焦 / 自動(dòng)消像散 / 自動(dòng)亮度 / 自動(dòng)襯度 | |
*樣品尺寸 | 200 mm 直徑 . × 75 mm 高度 200 mm 直徑 . × 80 mm 高度 32 mm 直徑 . × 90 mm 高度 |
樣品臺(tái)
| 大型優(yōu)中心樣品臺(tái) X : 125 mm, Y : 100 mm, Z : 80 mm 傾斜 : –10 ~ 90°, 旋轉(zhuǎn) : 360° |
蒙太奇功能 | 標(biāo)配 |
顯示測(cè)試位置坐標(biāo) | 200 mm 直徑 |
標(biāo)準(zhǔn)菜單 | 有 ( 包括 EDS 條件) |
圖像模式 | 二次電子像、REF 像、成分像 、形貌像、陰影像等 |
圖片像素 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920, 5,120 × 3,840 |
OS | Microsoft ® Windows ® 10 64bit |
顯示器 | 23 英寸觸摸屏 |
EDS 功能 | 請(qǐng)參考 EDS 規(guī)格說(shuō)明 |
測(cè)量功能 | 有 ( 兩點(diǎn)間距離 , 平行線間距離 , 角度 , 直徑等 ) |
數(shù)據(jù)管理功能 | SMILE VIEW TM Lab |
生成報(bào)告功能 | 一鍵生成 輸出格式 :Microsoft ® Word、 Microsoft ® PowerPoint |
語(yǔ)言切換 | 可以在 UI 上切換 ( 日語(yǔ) / 英語(yǔ) ) |
抽真空系統(tǒng)
| *自動(dòng) , TMP : 1 臺(tái) RP : 1 臺(tái) 或者 2 臺(tái) |
主要選配項(xiàng)
背散射電子檢測(cè)器 (BED) |
低真空二次電子檢測(cè)器 (LSED) |
能譜儀 (EDS) |
波譜儀 (WDS) |
電子背散射衍射檢測(cè)器 (EBSD) |
氣鎖 ( 預(yù)抽室 ) |
樣品臺(tái)導(dǎo)航系統(tǒng) (SNS) |
樣品室觀察系統(tǒng) (CS) |
操作面板 |
3D 測(cè)量軟件 |
操作臺(tái) |
EDS主要規(guī)格 適用于兩種配置 : A ( 元素分析 ) / LA ( 低真空 & 元素分析 ).
|
| ● :標(biāo)配○ :選配 |
控制 PC | OS :Microsoft ® Windows ® 10 64bit | ● |
語(yǔ)言 | 日語(yǔ) / 英語(yǔ) | ● |
檢測(cè)器 | SDD | 從檢測(cè)器表中選擇 |
能譜分析 | 定性分析 ( 峰的識(shí)別 , 自動(dòng)定性分析 ) | ● |
可視化峰標(biāo)別(VID) | ● | |
無(wú)標(biāo)樣定量分析 (ZAF 法 ) | ● | |
有標(biāo)樣定量分析 (ZAF method) | ● | |
PHI-RHO-Z(PRZ) 法定量校正方法 | ● | |
線分析 | 線分析 ( 水平方向 & 任意方向 ) | ● |
元素面分布 | 元素面分布 ( 多色 , 單色 , 多色疊加 ) | ● |
*分辨率像素 : 4,096 × 3,072 | ● | |
實(shí)時(shí)彈出譜圖(pop-up spectrum) | ● | |
重疊峰剝離面分布圖 ( 凈計(jì)數(shù)面分布圖 , 定量面分布圖 ) | ● | |
實(shí)時(shí)凈計(jì)數(shù)面分布圖 | ● | |
實(shí)時(shí)過(guò)濾 | ● | |
線分析顯示 | ● | |
電子束追蹤 | ● | |
連續(xù)分析 | 譜圖分析 , 線分析 , 元素面分布 | ● |
綜合分析已測(cè)定的數(shù)據(jù) ( 定性 & 定量分析 ) | ● | |
蒙太奇 | 自動(dòng)制作蒙太奇 (SEM 圖像 , 元素面分布圖 ) | ● |
多區(qū)域連續(xù)元素面分布圖 | ● | |
顆粒度分析軟件 | 顆粒度分析 ( 自動(dòng) / 手動(dòng) )&EDS 分析 | ○ |
顆粒度分析數(shù)據(jù)的分類(lèi)功能 | ○ | |
圖形顯示顆粒度分析數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)處理 | ○ | |
大區(qū)域的連續(xù)顆粒度分析 &EDS 分析 | ○ | |
數(shù)據(jù)管理功能 | SMILE VIEW TM Lab 報(bào)告生成 一鍵生成 輸出格式 :Microsoft ® Word、Microsoft ® PowerPoint ® | ●
|
SEM 一體化 | 綜合管理觀察 & 分析數(shù)據(jù) | ● |
在 SEM 操作界面上分析位置 ( 在 SEM 界面上直接分析 ) | ● | |
分析位置的圖形顯示 | ● | |
幫助功能 | 幫助指南 | ● |
雙檢測(cè)器 | 累計(jì)各個(gè)檢測(cè)器的數(shù)據(jù)并顯示 | ● |
離線功能 | 與設(shè)備主機(jī)獨(dú)立的離線數(shù)據(jù)分析許可軟件 | ○ |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)