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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma 防反射鍍膜

Eksma 防反射鍍膜

這些多層抗反射鍍膜設(shè)計(jì)用于將一個(gè)非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。

產(chǎn)品介紹

這些多層抗反射鍍膜設(shè)計(jì)用于將一個(gè)非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因?yàn)檠９夂蜕⑸涠鴣G失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時(shí)將實(shí)現(xiàn)較大的效率透射。

產(chǎn)品型號

ø25.4 mm光學(xué)元件的價(jià)格表

激光線抗反射鍍膜

型號	基材尺寸	波長	R,%(AOI=0°)	LIDT激光損傷閾值
AR266	≤ ø 25.4 mm	266 nm	R<0.4%	1 J/cm²
AR343	≤ ø 25.4 mm	333-353 nm	R<0.5%	3 J/cm²
AR343HT	≤ ø 25.4 mm	333-353 nm	R<0.2%	4 J/cm²
AR355	≤ ø 25.4 mm	355 nm	R<0.25%	3 J/cm²
AR355HT	≤ ø 25.4 mm	355 nm	R<0.2%	4 J/cm²
AR400	≤ ø 25.4 mm	380-420 nm	R<0.5%	3 J/cm²
AR400HT	≤ ø 25.4 mm	380-420 nm	R<0.2%	4 J/cm²
AR515	≤ ø 25.4 mm	500-530 nm	R<0.3%	5 J/cm²
AR515HT	≤ ø 25.4 mm	500-530 nm	R<0.1%	7 J/cm²
AR532	≤ ø 25.4 mm	532 nm	R<0.2%	5 J/cm²
AR532HT	≤ ø 25.4 mm	532 nm	R<0.1%	7 J/cm²
AR800	≤ ø 25.4 mm	760-840 nm	R<0.4%	8 J/cm²
AR800HT	≤ ø 25.4 mm	760-840 nm	R<0.1%	10 J/cm²
AR1030	≤ ø 25.4 mm	1000-1060 nm	R<0.3%	10 J/cm²
AR1030HT	≤ ø 25.4 mm	1000-1060 nm	R<0.1%	15 J/cm²
AR1064	≤ ø 25.4 mm	1064 nm	R<0.2%	10 J/cm²
AR1064HT	≤ ø 25.4 mm	1064 nm	R<0.1%	15 J/cm²

雙波段抗反射鍍膜

型號	基材尺寸	波長	R, %(AOI=0°)	LIDT激光損傷閾值
ARD800HT	≤ ø 25.4 mm	400+800 nm	R<0.2%	4 J/cm²
ARD1030	≤ ø 25.4 mm	515+1030 nm	R<0.5%	4 J/cm²
ARD1030HT	≤ ø 25.4 mm	515+1030 nm	R<0.1%	6 J/cm²
ARD1064	≤ ø 25.4 mm	532+1064 nm	R<0.5%	4 J/cm²
ARD1064HT	≤ ø 25.4 mm	532+1064 nm	R<0.1%	6 J/cm²

寬帶減反射膜

型號	基材尺寸	波長	R, %(AOI=0°)	激光損傷閾值
ARB300	≤ ø 25.4 mm	210-400 nm	R<2%	1 J/cm²
ARB550	≤ ø 25.4 mm	400-700 nm	R<0.9%	2 J/cm²
ARB625	≤ ø 25.4 mm	350-900 nm	R<1.5%	2 J/cm²
ARB825	≤ ø 25.4 mm	650-1100 nm	R<0.7%	3 J/cm²
ARB800	≤ ø 25.4 mm	700-900 nm	R<0.5%	3 J/cm²
ARB800HT	≤ ø 25.4 mm	700-900 nm	R<0.1%	5 J/cm²
ARB1000HT	≤ ø 25.4 mm	900-1100 nm	R<0.1%	5 J/cm²
ARB1375	≤ ø 25.4 mm	1050-1700 nm	R<0.7%	2 J/cm²

Laser Line AR coatings

鍍膜型號		波長	反射率, %		損傷閾值
AOI=0°	AOI=45°	nm	AOI=0°	AOI=45°	Threshold
3005-i0	3005-i45	193	< 1.0	<2.0	1 J/cm2 in 10 ns
3007-i0	3007-i45	248	< 0.8	<1.5	1.5 J/cm2 in 10 ns
3009-i0	3009-i45	266	< 0.4	<1.0	1.5 J/cm2 in 10 ns
3011-i0	3011-i45	308	<0.3	<0.6	1.5 J/cm2 in 10 ns
3014-i0	3014-i45	343	<0.25	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3015-i0	3015-i45	351-355	< 0.25	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3017-i0	3017-i45	400	< 0.25	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3021-i0	3021-i45	488-514	< 0.3	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3023-i0	3023-i45	515	< 0.2	<0.5	4 J/cm2 in 10 ns
3025-i0	3025-i45	532	< 0.2	<0.5	4 J/cm2 in 10 ns
3027-i0	3027-i45	633-650	< 0.25	<0.5	4 J/cm2 in 10 ns
3031-i0	3031-i45	780	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3033-i0	3033-i45	800	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3035-i0	3035-i45	850	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3036-i0	3036-i45	1030	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3037-i0	3037-i45	1064	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3041-i0	3041-i45	1320	<0.3	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3045-i0	3045-i45	1547	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns

請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。

雙波段增透膜

鍍膜型號		波長, nm	反射率, %		損傷閾值
AOI=0°	AOI=45°		AOI=0°	AOI=45°	Threshold
3106-i0	3106-i45	266 + 532	<0.5	<1.0	1.5 J/cm2 in 10 ns
3110-i0	3110-i45	355 + 532	<0.5	<1.0	2 J/cm2 in 10 ns
3114-i0	3114-i45	355 + 1064	<0.5	<1.0	2 J/cm2 in 10 ns
3118-i0	3118-i45	400 + 800	<0.5	<1.0	3 J/cm2 in 10 ns
3121-i0	3121-i45	515 + 1030	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3122-i0	3122-i45	532 + 1064	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3126-i0	3126-i45	670 + 1064	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3127-i0	3127-i45	808 + 1064	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3130-i0	3130-i45	1064 +1320	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3134-i0	3134-i45	1064 +1570	<0.5	<1.0	3 J/cm2 in 10 ns

請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。

寬帶增透膜

寬帶抗反射BBAR鍍膜設(shè)計(jì)用于在特定波長范圍內(nèi)將組件的反射率降低至接近零。因此，光可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因眩光和散射而丟失。我們的增透膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時(shí)將實(shí)現(xiàn)較大的效率透射。

鍍膜型號		波長, nm	反射率, %		損傷閾值
AOI=0°	AOI=45°		AOI=0°	AOI=45°	Threshold
3205-i0	3205-i45	210-400	<2	<3	1.5 J/cm2 in 10 ns
3207-i0	3207-i45	250-350	<1.2	<2.5	1.5 J/cm2 in 10 ns
3209-i0	3209-i45	300-400	<1.0	<2.0	1.5 J/cm2 in 10 ns
3211-i0	3211-i45	350-500	<0.8	<1.6	2.0 J/cm2 in 10 ns
3213-i0	3213-i45	350-900	<1.5	<3.0	2.0 J/cm2 in 10 ns
3215-i0	3215-i45	400-550	<0.4	<0.8	2.5 J/cm2 in 10 ns
3217-i0	3217-i45	400-700	<0.9	<1.8	3.0 J/cm2 in 10 ns
3219-i0	3219-i45	420-680	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3221-i0	3221-i45	450-750	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3223-i0	3223-i45	500-800	<0.6	<1.2	3.0 J/cm2 in 10 ns
3224-i0	3224-i45	500-1000	<1.5	<3.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3225-i0	3225-i45	600-900	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3227-i0	3227-i45	750-900	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3229-i0	3229-i45	800-1200	<0.7	<1.4	2.5 J/cm2 in 10 ns
3231-i0	3231-i45	1000-1400	<0.7	<1.4	2.0 J/cm2 in 10 ns
3232-i0	3232-i45	1050-1700	<1	<1.5	2.0 J/cm2 in 10 ns
3233-i0	3233-i45	1300-1700	<0.7	<1.4	2.0 J/cm2 in 10 ns
3235-i0	3235-i45	1500-2000	<0.7	<1.4	1.5 J/cm2 in 10 ns

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。