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當前位置:上海攸亦光電科技有限公司>>光學元件>> Eksma FEMTOLINE激光分束器-6
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌Eksma
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
更新時間:2021-03-17 11:02:37瀏覽次數(shù):794次
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組件類別 | 光學元件 |
Eksma FEMTOLINE激光分束器-6
Eksma FEMTOLINE激光分束器-6
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。
分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。
標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,請從Precision Thin Round Windows中選擇。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
波長-266 nm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
041-7920A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
041-7920P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
041-7920S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
041-7930A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
041-7930P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
041-7930S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
041-7950A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
041-7950P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
041-7950S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
041-7970A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
041-7970P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
041-7970S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
041-7980A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
041-7980P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
041-7980S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
042-7920FA | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
042-7920FP | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
042-7920FS | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
042-7930FA | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
042-7930FP | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
042-7930FS | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
042-7950FA | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
042-7950FP | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
042-7950FS | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
042-7970FA | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
042-7970FP | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
042-7970FS | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
042-7980FA | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
042-7980FP | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
042-7980FS | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
045-7920A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
045-7920P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
045-7920S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
045-7930A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
045-7930P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
045-7930S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
045-7950A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
045-7950P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
045-7950S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
045-7970A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
045-7970P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
045-7970S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
045-7980A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
045-7980P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
045-7980S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 266 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S2表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
入射角 | 45±3° |
背面防反射鍍膜 | R <0.5% |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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