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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
01-高校實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)主要用于以下實(shí)驗(yàn)：
1、材料清潔和活化
2、等離子涂鍍聚合
3、有機(jī)物去除
4、鍵合
5、等離子去膠
6、金屬還原
7、表面刻蝕
8、材料老化實(shí)驗(yàn)
9、改變親水性/疏水性
10、灰化表面有機(jī)層
當(dāng)然，【金鉑利萊】科技專(zhuān)注等離子表面處理方案，設(shè)備可以根據(jù)用途的不同，可選用多種構(gòu)造進(jìn)行特殊化定制。通過(guò)選用不用種類(lèi)的氣體，調(diào)整裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的，一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點(diǎn)擊、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工作傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常用13.56MHz的無(wú)線(xiàn)電波。
02-高校實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)的運(yùn)行過(guò)程如下：
（1） 將需要處理的樣品放入真空室并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開(kāi)始排氣，使真空室的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。
（2） 向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在10pa以?xún)?nèi)。根據(jù)清洗材質(zhì)的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮?dú)獾葰怏w。
（3） 在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過(guò)輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體*籠罩在被處理工件，開(kāi)始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
（4） 清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入氣體，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓.
03-什么是等離子體？
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊情況下可以以第四種狀態(tài)存在。等離子表面處理機(jī)在科學(xué)研究各方面已經(jīng)取得了廣泛的運(yùn)用，涉及光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域
04-高校實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)技術(shù)規(guī)格參數(shù)：
》腔體材料：不銹鋼/石英艙體
》工作氣路：兩路，可以選配MFC控制
》射頻頻率：40KHz
》射頻功率：0-200W/300W可選，可調(diào)
》控制系統(tǒng)：按鈕+單排LED顯示，實(shí)時(shí)顯示和檢測(cè)艙內(nèi)真空度值
》時(shí)間范圍：0—99分59秒連續(xù)可調(diào)
》工作壓力：樣品倉(cāng)內(nèi)200Pa以?xún)?nèi)根據(jù)進(jìn)氣量自動(dòng)調(diào)節(jié)
》工作氣體：空氣、氧氣、氮?dú)浠旌蠚狻鍤?、氮?dú)饧捌渌栊詺怏w與混合氣體均可
》進(jìn)氣壓力：空氣：常壓
》連接氣體鋼瓶：0.1-0.3Mpa
》工作模式：手動(dòng)模式和程序化自動(dòng)模式
》真空泵：抽速：1升到5升每秒
》輸入電源：~220V／50Hz