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Holmarc 型號： HO-SE-01XY 可變角度光譜橢偏儀是旋轉(zhuǎn)分析儀型橢偏儀，用于測量單層和多層薄膜的厚度和折射率。它可以測量幾納米到幾十微米范圍內(nèi)的薄膜厚度，以及透明材料和吸收材料的光學常數(shù)。

                                                                                                規(guī)格

    光譜范圍：450 - 800 納米

    橢偏儀配置 ：  RAE

    探測器：3648 像素 CCD 線性傳感器

    光譜分辨率：1 納米

    入射角：50 - 75 度（分辨率 0.1 度，自動操作）

    樣品聚焦：自動

    樣品厚度：0.3 毫米 - 8 毫米

    樣品 XY 平臺行程：30 毫米 x 30 毫米（電動）

    厚度測量范圍：20 納米 - 10 微米

    薄膜厚度分辨率：0.01 納米

    測量 R.I 的分辨率：0.001

    樣品校準 ：  手動傾斜

    樣品測量：自動

    厚度分析：先進的數(shù)學擬合算法

    軟件功能

    自動操作

    自動樣品聚焦

    用戶可擴展材料庫

    數(shù)據(jù)可保存為 Excel 格式

    數(shù)學擬合算法

    多層厚度測量

    推導厚度和光學常數(shù)

 

橢偏原理

橢偏儀是一種高靈敏度的薄膜分析技術。其原理依賴于光從表面反射時偏振態(tài)的變化。

為了描述與電磁波電場方向相對應的偏振態(tài)，選擇了兩個方向作為參考，即 p 方向（平行）和 s 方向（垂直）。反射光在 p 方向和 s 方向的相位變化不同。橢偏儀可以測量這種偏振狀態(tài)；

p = rp / rs = tan Ψe iΔ

其中，Ψ 和 Δ 分別是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于橢偏儀測量的是兩個值的比值，因此非常精確且可重復。

特點

    非破壞性和非接觸式技術

    分析單層和多層樣品

    精確測量超薄薄膜

    用于測量、建模和自動操作的軟件

    統(tǒng)一的 (Ψ, Δ) 測量靈敏度