您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)! 登錄| 免費(fèi)注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當(dāng)前位置:深圳為爾康科技有限公司>>質(zhì)控儀器>> RITG142直線加速器質(zhì)控軟件
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌RIT
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時(shí)間:2024-10-14 07:50:04瀏覽次數(shù):175次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
---|
RITG142直線加速器質(zhì)控軟件詳細(xì)介紹:
TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個(gè)基于圖像的測(cè)試的單一供應(yīng)商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件,自信而輕松地對(duì)直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。
RITG142質(zhì)控軟件,TG142分析軟件是機(jī)器 QA、MLC QA、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢(shì)分析的一體化解決方案,您需要符合 TG-142 和醫(yī)學(xué)物理學(xué)實(shí)用指南 (MPPG) 8.b 的全面 LINAC QA。此外,成像 QA 模型通過易于使用的跟蹤和趨勢(shì)分析功能自動(dòng)評(píng)分。
機(jī)器質(zhì)量保證
RITG142直線加速器質(zhì)控軟件LINAC 的每日、每月和年度機(jī)器 QA
增強(qiáng)型 3D Winston-Lutz(等中心優(yōu)化)和 Virtual Star Shot*
自動(dòng)處理一組 EPID Winston-Lutz 圖像,以快速準(zhǔn)確地測(cè)量等中心位置。RIT 版本的此測(cè)試允許您使用 3 到 16 張圖像,并為球設(shè)置和圍繞等中心擺動(dòng)提供誤差估計(jì)。增加的角度靈活性使您能夠模擬更多臨床相關(guān)的角度,以確定特定治療配置下的等中心。*美國(guó)zhun利9192784、JP Patent 6009705、CA Patent 2918045和其他正在申請(qǐng)的國(guó)際zhuan利。
立體定向?qū)?zhǔn) (2D Winston-Lutz) 測(cè)試
立體定向錐形輪廓
字段對(duì)齊
光束測(cè)量
輻射/光場(chǎng)重合
EPID圖像可以在沒有校準(zhǔn)文件的情況下進(jìn)行分析,并具有自定義的視場(chǎng)大小。中心位置可以通過采取
BB、針刺或使用 L-Rad Phantom。
全自動(dòng)星形分析
非對(duì)稱場(chǎng)/匹配線
深度劑量、交叉和正交剖面
電子能 (TG-25)
圖像直方圖
等劑量輪廓
3D 劑量曲線
快速平整度和對(duì)稱性
水箱梁測(cè)量分析
導(dǎo)入斷層放療®校準(zhǔn)文件
斷層放療®是 Accuray, Inc. 的注冊(cè)商標(biāo)
MLC質(zhì)量保證
Varian LINAC
EPID糾察柵欄測(cè)試
此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試。
自動(dòng)化瓦里安 RapidArc®測(cè)試
可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像。這包括:測(cè)試 0.1、0.2、1.1、1.2、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型。
瓦里安葉速試驗(yàn)
在不使用日志文件的情況下,該測(cè)試可測(cè)量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動(dòng)時(shí)的一致性和準(zhǔn)確性。
瓦里安·哈爾西恩®MLC分析
執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC
Elekta LINAC
漢考克對(duì)醫(yī)科達(dá)機(jī)器的測(cè)試
漢考克測(cè)試(2 圖像測(cè)試、4 圖像測(cè)試和帶備用鉗口測(cè)試)使用 Elekta iView™ 成像儀自動(dòng)測(cè)量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測(cè)量值。
EPID糾察柵欄測(cè)試
此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試。
醫(yī)科達(dá)葉速測(cè)試
此測(cè)試對(duì)齊兩張圖像,以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。
其他 MLC 測(cè)試
Bayouth MLC分析
分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC。
其他 MLC 測(cè)試
其中包括:TG-50 糾察柵欄測(cè)試、MSK 葉片測(cè)試、瓦里安 DMLC 測(cè)試模式和 MLC 傳輸分析。
成像 QA
EPID QC模塊
RIT長(zhǎng)子
(EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。 這些測(cè)試包括:5 個(gè)區(qū)域的穩(wěn)定性、分辨率 (MTF)、幾何失真、均勻性、對(duì)比度和噪點(diǎn)。
PTW電子元
拉斯維加斯EPID
標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-3
卡坦®、kV 和錐形梁模塊
瓦里安 504 CATPHAN
瓦里安 604 CATPHAN
醫(yī)科達(dá) 503 CATPHAN
西門子圖像質(zhì)量 Phantom
DR/CR kV模塊
IBA Primus(IBA普里姆斯酒店)®L
PTW 諾米®4
(20x20厘米和30x30厘米)
利茲 TOR-18 FG
標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-kV1
kV/MV模塊
標(biāo)準(zhǔn)成像 ISOCube
五角星指南
基本模塊
DICOM圖像查看器
DICOM 標(biāo)簽查看器
圖像導(dǎo)入:DICOM 目錄瀏覽器、打開目錄瀏覽器、DICOM 文件過濾器
手動(dòng)測(cè)量:距離、角度、輪廓、直方圖、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出
輸出格式:打印、PDF 導(dǎo)出、帶有自定義模板的 Excel 導(dǎo)出
監(jiān)控圖像質(zhì)量
圖像傳輸
自定義公差管理
使用公差管理器為所有自動(dòng)模型分析中使用的每個(gè)測(cè)量設(shè)置公差值和通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性:
在易于使用的面板中方便地設(shè)置和切換公差,該面板位于主界面中,并顯示在每個(gè)模型分析例程中。
為分析及其相應(yīng)報(bào)告設(shè)置自己的通過/失敗標(biāo)準(zhǔn),允許在所有成像 QA 分析中進(jìn)行wan全定制。
偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺(tái)機(jī)器設(shè)置的。它們可以針對(duì)使用中的每臺(tái)機(jī)器進(jìn)行精確定制。
將所有通過/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)?/span>RIT趨勢(shì)數(shù)據(jù)庫(kù),以進(jìn)行統(tǒng)計(jì)跟蹤和趨勢(shì)™分析
其他測(cè)量
用于 QA 的電影劑量測(cè)定
放射致變色和放射致變色膠片,配備Vidar和平板掃描儀
平板非均勻性校正
放射致變色膠片均勻性校正
用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
通用映像文件導(dǎo)入
Vidar 掃描儀接口(Vidar 掃描儀控制中心)
校準(zhǔn)
MLC標(biāo)定技術(shù)
zhuan利:EP 1318857、CA 2418232、JP 3817176、US 6675116、US 6934653 和 US 7013228。
用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
垂直劑量校準(zhǔn)
校準(zhǔn)文件合并
EPID 質(zhì)量保證
導(dǎo)入用于 QA 的 EPID 映像
縮放瓦里安 EPID 的 DICOM 圖像
一般特征
圖像合成器
DICOM 匿名器
針刺、擦除和 ROI 工具
每個(gè)分析程序的 PDF 報(bào)告
基于云的軟件許可
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示:為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn),建議您在購(gòu)買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。