Nolay10硅中氧碳含量測定儀

    單晶硅材料可以用于制造太陽能電池、半導體器件等，由于其應用領域的特殊性要求其純度達到99.9999% 甚至更高。在單晶硅生產(chǎn)過程中由原料及方法等因素難以避免的引入了碳、氧等雜質，直接影響了單晶硅的性能。因而需對單晶硅材料中的氧碳含量進行控制。

    依據(jù)G B/T 1558-2009和G B/T 1557-2006，紅外光譜法可以在對單晶硅中代位碳和間隙氧進行定性的同時進行定量測定,具有快速、方便、準確的優(yōu)點。

原理

    利用硅中代位碳原子和間隙氧原子分別在波數(shù)607.2cm -1和1107cm -1 有特征吸收，根據(jù)吸收峰的吸收系數(shù)來確定代位碳原子濃度和間隙氧原子的濃度。

Nolay10硅中氧碳含量測定儀規(guī)格參數(shù)

光譜范圍：7800～350 cm-1

分辨率：優(yōu)于1.0 cm-1

波數(shù)精度：≤0.01cm-1

信噪比：優(yōu)于15000:1／優(yōu)于30000:1（P-P值，4cm-1，一分鐘掃描） 可選

分束器：KBr基片鍍鍺（進口）

光源:高能量、高效率、長壽命陶瓷光源（進口）

干涉儀：30度入射角Michelson干涉儀

接收器：帶有防潮膜的高靈敏度DLATGS接收器（進口）

數(shù)據(jù)傳輸接口：USB2.0（兼容3.0）

支持系統(tǒng)：Windows XP、Windows Vista、Windows 7、Windows 8、Windows 8.1、Windows 10

尺寸:450mm×350mm×235 mm

重量：14Kg