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當(dāng)前位置:上海群弘儀器設(shè)備有限公司>>技術(shù)文章>>濕法激光顆粒度儀Mie散射理論
隨著科學(xué)技術(shù)的日益進(jìn)步和發(fā)展,在國民經(jīng)濟(jì)的許多部門,如能源、動力、機(jī)械、醫(yī)藥、化工、輕工、冶金、建材等行業(yè)中都出現(xiàn)了越來越多的細(xì)微顆粒密切相關(guān)的技術(shù)問題有待解決,顆粒粒徑大小的測量是其中基本也是重要的一個方面。許多情況下,顆粒粒徑大小不僅直接影響到產(chǎn)品的性能與質(zhì)量,而且對工藝過程的優(yōu)化、能源消耗的降低、環(huán)境污染的減少等都有重大的關(guān)聯(lián)。 近年來,與高新技術(shù)、國防工業(yè)、軍事科學(xué)等密切相關(guān)的各種新型顆粒材料,特別是超細(xì)納米顆粒的問世和利用,給顆粒粒徑的測量提出了新的和更高的要求,不但要求快速、自動化數(shù)據(jù)處理、而且也要求提供可靠的更豐富的數(shù)據(jù)和更有用的信息,以滿足科研領(lǐng)域和工業(yè)質(zhì)量控制方面應(yīng)用的需要。儀器集先進(jìn)激光技術(shù)、半導(dǎo)體技術(shù)、光電技術(shù)、微電子技術(shù)和計算機(jī)技術(shù)的應(yīng)用,綜合了光、機(jī)、電、計算機(jī)于一體,以光散射理論為基礎(chǔ)的顆粒粒徑測量技術(shù)突出的優(yōu)點逐步取代了一些傳統(tǒng)的常規(guī)測量方法,必將成為一代新穎的顆粒粒徑測量儀器。并且在科研領(lǐng)域和工業(yè)質(zhì)量控制的粒度分布分析中發(fā)揮著越來越大的作用。
本儀器符合但并不局限于以下標(biāo)準(zhǔn):
ISO 13320-2009 G/BT 19077.1-2008 粒度分析 激光衍射法
技術(shù)參數(shù):
1. 理論依據(jù):Mie散射理論
2. 粒徑測量范圍:0.1-200um
3. 光源:半導(dǎo)體制冷恒溫控制紅光固體激光光源,波長635nm
4. 重復(fù)性誤差:<1%(標(biāo)準(zhǔn)D50偏差)
5. 測量誤差:<1%(標(biāo)準(zhǔn)D50偏差,用國家標(biāo)準(zhǔn)顆粒檢驗)
6. 檢測器:32或48或64或更高通道硅光電二極管
7. 樣品池:滴樣法樣品池10mL;循環(huán)樣品池(500mL內(nèi)置超聲分散、攪拌裝置)
8. 測量分析時間:正常條件下小于1分鐘(從開始測量到顯示分析結(jié)果)
9. 輸出內(nèi)容:體積、數(shù)量微分分布和累積分布表和圖表;多種統(tǒng)計平均直徑;操作者信息;實驗樣品信息、分散介質(zhì)信息等。
10. 顯示方式:內(nèi)嵌10.8寸工業(yè)級別的電腦,可連接鍵盤、鼠標(biāo)、U盤
11. 電腦系統(tǒng):WIN 10系統(tǒng),30GB硬盤容量、2GB系統(tǒng)內(nèi)存
12. 電源:220V,50 Hz
工作條件:
l 1.室內(nèi)溫度:15℃-35℃
l 2.相對溫度:不大于85%(無冷凝)
l 3.建議用交流穩(wěn)壓電源1KV,無強(qiáng)磁場干擾。
l 4.由于在微米級的范圍內(nèi)的測量,儀器應(yīng)放在堅固可靠、無振動的工作臺上,并且在少塵條件下進(jìn)行測量。
l 5.儀器不應(yīng)放在太陽直射、風(fēng)大或溫度變化大的場所。
l 6.設(shè)備必須接地,保證安全和高精度。
7.室內(nèi)應(yīng)清潔、防塵、無腐蝕性氣體。
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