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如何減少X熒光光譜儀測(cè)試受到的影響呢？
閱讀：1014 發(fā)布時(shí)間：2019-4-11
與成品補(bǔ)口一致的標(biāo)樣，盡量將樣品熔的均勻，壓片后再測(cè)試；對(duì)于不能熔的樣品，可以將表面打磨，防止表面太臟，影響測(cè)量結(jié)果，規(guī)范操作，盡量延長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間，虛譜和測(cè)試圖譜必須*吻合，對(duì)于不均勻的樣品，可以多測(cè)試幾個(gè)點(diǎn)，然后取平均值。