目錄:四川物科光學(xué)精密機械有限公司>>紋影儀>>泰普勒紋影儀>> WKWY-300紋影儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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紋影儀可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場密度變化科學(xué)研究。泰普勒紋影儀是傳統(tǒng)、使用*的一種。
技術(shù)參數(shù)：
參數(shù) | 最大值 | 最小值 | 備注 |
視場 | Φ1000mm | Φ50mm | |
相對孔徑 | 1:10 | 1:20 | |
像鑒別率 | ≥40lp/mm | ||
照明設(shè)備 | 普通激光光源、LED光源、鎢燈光源 | ||
成像傳感器 | 數(shù)碼單反相機、高速相機、記錄干板 | ||
狹縫類型 | 單狹縫、多狹縫、小孔、色散棱鏡或光柵、彩色圓孔或者方孔狹縫 | ||
刀口類型 | 單刀口、雙刀口、四刀口、柵格刀口、圓形刀口等 | ||
結(jié)構(gòu)類型 | 積木式、筒式、平板式或者相關(guān)結(jié)構(gòu)類型 | ||
其中主反射鏡光學(xué)材料：K9光學(xué)玻璃，應(yīng)力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護(hù)膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護(hù)膜，反射系數(shù)≥90%，面型精度＜1/10波長。
該系統(tǒng)主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統(tǒng)、主球面反射鏡裝調(diào)機構(gòu)、刀口成像系統(tǒng)三個部分。其中，光源狹縫系統(tǒng)和其中一塊主球面反射鏡組成準(zhǔn)直系統(tǒng)，刀口成像系統(tǒng)與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統(tǒng)，分別布局于兩個平臺上。
紋影法，又稱紋影技術(shù)，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統(tǒng)進(jìn)行流場顯示和測量的常用的光學(xué)方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應(yīng)用在光學(xué)玻璃折射率的檢測中。
1952年 ，Holde和Norht在紋影系統(tǒng)上使用白光的分光棱鏡 ，實現(xiàn)了彩色紋影成象，擴大了紋影技術(shù)的應(yīng)用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應(yīng)后指出，紋影法實用于水洞 的流場顯示；1974年 ，Merzkirch對可壓縮流場中的紋影技術(shù)進(jìn)行了分類，把涉及到在紋影系統(tǒng)上進(jìn)行的干涉紋影法的研究 ，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ，均歸類于紋影技術(shù),并得到國內(nèi)同行的認(rèn)可。
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