醋酸鹽鑒別瓊脂我司提供的培養(yǎng)基為現(xiàn)貨供應(yīng)，所銷產(chǎn)品嚴(yán)格按照相關(guān)，質(zhì)量有保證，能保證用戶理想的實(shí)驗(yàn)效果，如有質(zhì)量問(wèn)題，我司可包退換，大批量訂購(gòu)可享受優(yōu)惠價(jià)格！

醋酸鹽鑒別瓊脂
中文名稱：醋酸鹽鑒別瓊脂
英文名稱：ACETATE
包裝規(guī)格：250
產(chǎn)品用途：
產(chǎn)品售價(jià)：本頁(yè)面展示的價(jià)格僅為參考價(jià)，并不代表實(shí)時(shí)報(bào)價(jià)，訂購(gòu)時(shí)還請(qǐng)以電詢?yōu)闇?zhǔn)。
注意事項(xiàng) ▎?
1. 請(qǐng)佩戴口罩操作，以避免因培養(yǎng)基粉塵而引起呼吸道系統(tǒng)不適。
2. 干粉培養(yǎng)基容易吸潮結(jié)塊，使用后應(yīng)立即旋緊瓶蓋。
3. 平板厚度過(guò)薄容易造成瓊脂水分保持性下降，開(kāi)裂，自制平板時(shí)需注意培養(yǎng)基的厚度；15-20mL（Φ90mm）體積培養(yǎng)基，平板培養(yǎng)基厚度至少為2mm。
儲(chǔ)存條件及保質(zhì)期 ▎?脫水干粉培養(yǎng)基的貯存期一般為二年，需貯存于避光和陰涼干燥的環(huán)境之下，使用后請(qǐng)立即旋緊瓶蓋。
廢物處理 ▎?檢測(cè)之后帶菌平板置于121℃下高壓滅菌30分鐘。
進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)添加于225ml HB4160中制成LB14.0mg*5

進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)吖啶黃素每支添加于225ml HB4150、HB4192中（SN、GB標(biāo)準(zhǔn)）3.75mg/支*5

進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)添加于225ml HB4160中制成LB12.7mg*5

進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)添加于200ml HB4160中制成LB25mg*5

進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)胰酪胨大豆酵母浸膏瓊脂(TSA-YE)   用于單增李氏菌的分純，培養(yǎng)，可用于做7%羊血瓊脂（SN標(biāo)準(zhǔn)）Trypticase Soy-Yeast Extract Agar250

進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)李氏菌選擇性培養(yǎng)基基礎(chǔ)(MMA)  用于單增李氏菌選擇性分離（SN標(biāo)準(zhǔn)）Modified Mcbride Agar Base250
溶質(zhì)載體家族9成員1/鈉氫交換蛋白1 多克隆抗體SL9A1 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

溶質(zhì)載體家族9成員2 多克隆抗體SL9A2 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

溶質(zhì)載體家族9成員3 多克隆抗體SL9A3 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

溶質(zhì)載體家族9成員5 多克隆抗體SL9A5 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

溶質(zhì)載體家族9成員10 多克隆抗體SL9C1 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

溶質(zhì)載體家族9成員11 多克隆抗體SL9C2 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul
斜面培養(yǎng)基的擺放裝置:
無(wú)菌檢驗(yàn)常常會(huì)批量使用斜面培養(yǎng)基，其制作方法是將液態(tài)的培養(yǎng)基置于試管中，將試管傾斜擺放直至培養(yǎng)基凝固。目前，試管的擺放方式是將其依靠在一定高度的臨時(shí)依靠物上，這種擺放方式存在易滑落和左右滾動(dòng)，且難以找到統(tǒng)一高度依靠物的弊端。
針對(duì)以上不足，可以參考一種擺放方案。斜面培養(yǎng)基的擺放裝置，包括X向連接支架、Υ向連接支架、Ζ向連接支架、擋板以及平板；Υ向連接支架為兩個(gè)，兩個(gè)Υ向連接支架分別設(shè)置于X向連接支架的兩端，Ζ向連接支架垂直設(shè)置于X向連接支架上，擋板為兩塊，分別設(shè)置于X向連接支架的兩側(cè)，并分別與Υ向連接支架的兩端部連接，平板設(shè)置于Ζ向連接支架的頂部；平板上與擋板相對(duì)應(yīng)的兩側(cè)邊上分別設(shè)有多個(gè)半圓形缺口 ；擋板與半圓形缺口之間形成傾斜設(shè)置空間。