CVD-1700系統(tǒng)由SGL-1700真空管式爐，HQF-Ⅲ浮子混氣系統(tǒng)，內(nèi)置測溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1700℃；真空泵采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)到5x10-1Pa；可實(shí)現(xiàn)不同的1~3路氣體混合；內(nèi)置測溫系統(tǒng)可實(shí)時監(jiān)測反應(yīng)管內(nèi)的溫度變化。

主要功能和特點(diǎn)：

1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，zui高真空可達(dá)0.0001Pa；

2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；

3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。

4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；

5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進(jìn)氣，使用安全可靠。

主要用途：

高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。

主要技術(shù)參數(shù)：

SGL-1700真空管式爐

雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫；

日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好

加熱元件采用進(jìn)口優(yōu)質(zhì)U型硅鉬棒，表面負(fù)荷高，大大提高了其使用壽命

電壓

AC220V      50/60Hz

功率

6KW

爐管

采用99氧化鋁剛玉管，致密度高，經(jīng)久耐用，不易斷裂

尺寸：Φ40/60/80*/1000mm

4個氧化鋁管堵

法蘭及支撐

SUS304不銹鋼快速水冷法蘭，長期水冷無腐蝕

一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷

可調(diào)節(jié)的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐

包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個密封硅膠圈等

加熱系統(tǒng)

加熱元件：6根U型硅鉬棒

加熱區(qū)長度：280mm

恒溫區(qū)長度：100mm

工作溫度：≤1600℃

zui高溫度：1650℃

升溫速率：≤10℃/min

溫控系統(tǒng)

溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能

50段升降溫程序

測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶

恒溫精度：±1℃

HQF-Ⅲ混氣系統(tǒng)

三路浮子流量計配置在移動工作臺上，可以同時通入三路不同的氣體

內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥

管路采用聚四氟乙烯軟管，耐溫耐腐

每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥

流量規(guī)格：0.3~3L/min

控制精度：±5%

低真空系統(tǒng)

采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)5x10-1 Torr

不銹鋼充油真空壓力表，良好的抗震性

內(nèi)置測溫系統(tǒng)

測溫元件可從加熱區(qū)邊緣延伸至溫區(qū)中心

法蘭密封，保證爐管的密封性

測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶

尺寸

高溫爐：660*580*910mm

混氣移動工作臺：800*540*720mm

可選配件

HQZ混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉坩堝，剛玉管，計算機(jī)控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環(huán)機(jī)等