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          安捷倫二手質(zhì)譜ICP-MS
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          • 安捷倫二手質(zhì)譜ICP-MS

          舉報
          貨物所在地: 廣東深圳市
          更新時間: 2024-10-22 16:54:33
          期: 2024年10月22日--2025年4月23日
          已獲點擊: 140
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          (聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

          產(chǎn)品簡介

          安捷倫二手質(zhì)譜ICP-MS安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,ICPMS 7500具有適應(yīng)多種樣品類型、應(yīng)用范圍廣泛、性能穩(wěn)定耐用的特點,是大多數(shù)常規(guī)實驗室和分析大批量樣品的商業(yè)實驗室的上佳選擇。ICPMS 7500則是專為半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用而設(shè)計,具有半導(dǎo)體針對性的強大功能。這兩種型號都具有性能和易于使用的優(yōu)點,即使您面對的是棘手的樣品基體,它們都能為您獲取值得信賴的分析結(jié)果。

          詳細(xì)介紹

          安捷倫二手質(zhì)譜ICP-MS安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

          ICPMS 7500具有適應(yīng)多種樣品類型、應(yīng)用范圍廣泛、性能穩(wěn)定耐用的特點,是大多數(shù)常規(guī)實驗室和分析大批量樣品的商業(yè)實驗室的上佳選擇。ICPMS 7500 則是專為半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用而設(shè)計,具有半導(dǎo)體針對性的強大功能。這兩種型號都具有性能和易于使用的優(yōu)點,即使您面對的是棘手的樣品基體,它們都能為您獲取值得信賴的分析結(jié)果。

          7500系列ICP-MS不但配置了新的軟件平臺,而且在儀器硬件方面也進(jìn)行了革新設(shè)計,包括全新數(shù)字控制式射頻匹配的RF發(fā)生器和第三代八極桿碰撞/反應(yīng)池系統(tǒng)(ORS3)。安捷倫 ICP-MS  7500憑借第三代碰撞/ 反應(yīng)池(ORS3) 為復(fù)雜高基體樣品的分析提供了準(zhǔn)確性,它重新定義了碰撞/反應(yīng)池:僅使用氦氣碰撞即可消除所有可能的質(zhì)譜干擾!

          安捷倫二手質(zhì)譜ICP-MS參數(shù):

          1. 靈敏度:
          低質(zhì)量數(shù) Li(7): 3 50 Mcps/ppm;
          中質(zhì)量數(shù) Y(89): 3 160 Mcps/ppm(7700x); 240 Mcps/ppm(7700s) ;
          高質(zhì)量數(shù) Tl(205): 3 80 Mcps/ppm(7700x); 120 Mcps/ppm(7700s);
          根據(jù)用戶特殊需求,可提供超高靈敏度功能
          2. 檢測限:
          低質(zhì)量數(shù) Be(9): £ 0.5 ppt;
          中質(zhì)量數(shù) In(115): £ 0.1 ppt
          高質(zhì)量數(shù) Bi(209): £ 0.1 ppt
          3. 氧化物干擾: CeO+/Ce+:£ 1.5 %(7700x);  3.0 %(7700s);
          4. 雙電荷干擾: Ce2+/Ce+:£ 3.0 %
          5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) £0.1%
          6. 質(zhì)譜范圍:2 - 260 amu;
          7 豐度靈敏度 :
          低質(zhì)量端: £ 5 x 10-7
          高質(zhì)量端: £ 1 x 10-7

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          特征去除干擾的 ORS 技術(shù)
          用于提高研究/物種形成應(yīng)用所需的靈敏度的軸上反應(yīng)池
          使用簡單的氦氣和氫氣消除對砷、硒、鉻、釩和鐵等關(guān)鍵元素的多原子干擾
          無需矩陣匹配、元素特定優(yōu)化或干擾方程即可消除干擾
          高透射離子透鏡(離軸離子透鏡)——提高靈敏度和基質(zhì)耐受性
          易于設(shè)置和用于復(fù)雜的、通常未知的樣品基質(zhì)的常規(guī)痕量分析 - 保留 ICP-MS 作為多元素測量技術(shù)的全部功能
          在同一分析運行中,動態(tài)范圍從砷和硒的低 ppt 到鈉的 1000 ppm,從而無需額外的分析技術(shù),例如 ICP-OES、GFAAS 和冷蒸氣。
          標(biāo)準(zhǔn)模式(無池氣體)也可用于*靈活的操作
          為高基質(zhì)應(yīng)用優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)


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