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質(zhì)檢——精密光學(xué)測(cè)量?jī)x器

LAYERTEC致力于確保當(dāng)前和未來(lái)產(chǎn)品的質(zhì)量。

我們*的測(cè)量設(shè)備可用于監(jiān)督基材和涂層的生產(chǎn)。

例如我們定期測(cè)量

Ø表面形態(tài)

Ø表面粗糙度/精加工質(zhì)量

Ø光譜透射率和反射率

Ø頻譜相位和GDD（如果適用）

Ø使用以O(shè)PO為光源的寬帶腔衰蕩設(shè)置在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行高級(jí)反射率測(cè)量

Ø某些波長(zhǎng)和脈沖長(zhǎng)度的損傷閾值測(cè)量

質(zhì)檢——精密光學(xué)測(cè)量?jī)x器

LAYERTEC的精密光學(xué)設(shè)備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀?？梢詾槠矫娑葹?lambda;/ 20（633nm）的平面基板和形狀度為λ/ 10（633nm）的球形基板提供干涉測(cè)量規(guī)程。

LAYERTEC還使用高性能的Fizeau干涉儀和Twyman-Green干涉儀在以下測(cè)量范圍內(nèi)對(duì)大型光學(xué)器件的形狀公差進(jìn)行測(cè)量：

平面：

Ø最大∅= 300mm

Ø測(cè)量精度：平坦度λ/ 100（546nm）

球面：

Ø最大∅= 500mm

Ø測(cè)量精度：形狀公差為λ/ 50（546nm）

原子力顯微鏡（AFM）是有用的儀器，用于表征均方根粗糙度低于5Å的非常光滑的表面。LAYERTEC具有AFM，可控制特殊的拋光過(guò)程并根據(jù)要求提供檢查方案。

涂層測(cè)量工具

LAYERTEC的檢查程序包括在120nm至20µm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)對(duì)鍍膜光學(xué)元件進(jìn)行分光光度測(cè)量。使用PERKIN ELMER分光光度計(jì)Lambda950®，Lambda750®和Lambda19®在190nm – 3200nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)分光光度測(cè)量。對(duì)于超出此波長(zhǎng)范圍的測(cè)量，LAYERTEC配備了FTIR光譜儀（對(duì)于λ=1μm...20μm）和VUV光譜儀（對(duì)于λ= 120nm ... 240nm）。

通過(guò)腔衰蕩時(shí)間光譜法測(cè)量高反射率，R = 99.9 ... 99.9995％。實(shí)際上，LAYERTEC配備了各種CRDS測(cè)量系統(tǒng)，可以在355nm至1064nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)使用。此外，還提供了一種新穎的寬帶CRDS設(shè)置，該設(shè)置可以測(cè)量220nm至2300nm之間的低損耗反射鏡的反射率。

LAYERTEC配備了LIDT測(cè)量設(shè)置，工作于266nm，355nm，532nm和1064nm且具有ns脈沖。

還可以與耶拿光子技術(shù)研究所，弗勞恩霍夫研究所耶拿Jena和漢諾威激光Zentrum合作，對(duì)光學(xué)薄膜和塊狀材料的吸收和散射損耗進(jìn)行測(cè)量，并對(duì)激光損傷閾值進(jìn)行測(cè)量。

菲索干涉儀（SOLITON MiniFIZ 300）

干涉儀（OptoTech®）

原子力顯微鏡（DINanoscope®）

分光光度計(jì)

腔振鈴設(shè)置

GDD測(cè)量設(shè)置

低損耗光學(xué)元件的反射率和透射率的測(cè)定

低損耗光學(xué)組件的反射率值R> 99％和透射率值T> 99％可以通過(guò)腔衰蕩時(shí)間測(cè)量非常準(zhǔn)確地測(cè)量。與在光譜儀中進(jìn)行測(cè)量相比，該方法具有三個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)：

Ø適用于非常高的反射率和透射率

Ø無(wú)法獲得比實(shí)際值高的測(cè)量值

Ø精度很高

基本CRD測(cè)量設(shè)置

Layertec帶有各種腔衰蕩系統(tǒng)，通過(guò)這些系統(tǒng)可以穩(wěn)定地控制光學(xué)組件的質(zhì)量。有關(guān)更多詳細(xì)信息，請(qǐng)參見我們的目錄內(nèi)容“低損耗光學(xué)器件和腔衰蕩時(shí)間測(cè)量簡(jiǎn)介”。

您可以在此處下載我們的目錄。

相位優(yōu)化的fs-Laser寬帶鏡-CRD測(cè)量示例

低損耗鏡-CRD測(cè)量示例

轉(zhuǎn)向鏡-寬帶CRD測(cè)量示例

薄膜偏振片-CRD測(cè)量示例