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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡(jiǎn)述（四川成都微波行業(yè)真空等離子清洗機(jī)銷售）
（1.1）等離子清洗的作用
等離子清洗的作用原理主要是：
（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用
等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。
（B）激活鍵能，交聯(lián)作用
等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。
（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用
如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。
1.2）真空等離子清洗的優(yōu)勢(shì)
等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。
與傳統(tǒng)的一些清洗方法，如超聲波清洗、UV清洗等，具有以下優(yōu)點(diǎn)：
（A）處理溫度低
處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對(duì)樣品表面不造成熱影響。
（B）處理全程無(wú)污染
等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，不產(chǎn)生任何污染，處理過(guò)程也不產(chǎn)生任何污染。
（C）處理效果穩(wěn)定
等離子清洗的處理效果非常均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持效果良好。
（D）可以處理各種形狀的樣品
對(duì)于復(fù)雜形狀的樣品，等離子清洗都能找到合適的解決方案。
真空等離子清洗更可實(shí)現(xiàn)對(duì)固體樣品內(nèi)部位置進(jìn)行清洗。
（1.2）產(chǎn)品原理（四川成都微波行業(yè)真空等離子清洗機(jī)銷售）
等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為四大部分組成：控制系統(tǒng)、激勵(lì)電源系統(tǒng)、真空腔體、工藝氣體系統(tǒng)、以及真空泵系統(tǒng)。
（A）控制系統(tǒng)：
控制系統(tǒng)的功能在于控制整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行，包括人機(jī)界面（觸摸屏）、PLC、電氣電路。采用全自動(dòng)控制系統(tǒng)的真空等離子清洗，可實(shí)現(xiàn)多種模式多種程序?qū)η逑丛O(shè)備進(jìn)行控制，滿足不同客戶的需求。
（B）激勵(lì)電源系統(tǒng)：
激勵(lì)電源主要有三類：40KHz的中頻激勵(lì)電源，13.56MHz的射頻激勵(lì)電源，2.45GHz的微波激勵(lì)電源。目前業(yè)界主要采用的是射頻激勵(lì)電源和中頻激勵(lì)電源。各自應(yīng)用場(chǎng)合不同。
（C）真空腔體：
真空腔體主要是分為三種材質(zhì)的：1）鋁合金腔體，2）不銹鋼真空腔體，3）石英腔體。根據(jù)用戶的不同需求，可實(shí)現(xiàn)不同的放電模式和適用不同的樣品尺寸和產(chǎn)能。
（D）工藝氣體系統(tǒng)：
工藝氣體包括流量計(jì)、氣壓閥等，用戶可靈活選擇多路的工藝氣體方案，氬氣、氧氣、氫氣、氮?dú)?、四氟化碳等，可滿足不同工藝方案要求。清洗各種產(chǎn)品表面。
（E）真空泵：
真空泵分為油泵、干泵、羅茨泵，油泵主要采用雙級(jí)旋片泵，根據(jù)用戶所采用的腔體體積、工作效率、環(huán)境要求來(lái)制定真空泵的方案。
成都、重慶都有銷售駐點(diǎn)，可提供儀器上門演示。售前售后非常方便。
