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          金相試樣磨拋機(jī)VISPOL 1500

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          • 所在地 上海市
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          更新時(shí)間:2022-01-12 13:43:14瀏覽次數(shù):475

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          產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 尺寸(L*W*D) 700*600*278mm
          價(jià)格區(qū)間 面議 磨盤(pán)尺寸 230mmmm
          磨盤(pán)個(gè)數(shù) 雙盤(pán)個(gè) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,地礦,建材,電子,交通
          轉(zhuǎn)速 50-1000轉(zhuǎn)/分rpm
          金相試樣磨拋機(jī)VISPOL 1500為雙盤(pán)式機(jī),可兩人同時(shí)操作使用,適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過(guò)變頻器調(diào)速,可直接獲得50~1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速,從而使本機(jī)具有更加廣泛的應(yīng)用性。是用戶(hù)用來(lái)制作金相試樣*的設(shè)備。本機(jī)帶有冷卻裝置,可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。該機(jī)使用方便、*全*靠,是工廠、科研單位以及大專(zhuān)院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。

          詳細(xì)介紹


          金相試樣磨拋機(jī)VISPOL 1500為雙盤(pán)式機(jī),可兩人同時(shí)操作使用,適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過(guò)變頻器調(diào)速,可直接獲得50~1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速,從而使本機(jī)具有更加廣泛的應(yīng)用性。是用戶(hù)用來(lái)制作金相試樣*的設(shè)備。本機(jī)帶有冷卻裝置,可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。該機(jī)使用方便、*全*靠,是工廠、科研單位以及大專(zhuān)院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。

          產(chǎn)品特點(diǎn)
          1.可輕磨、粗磨、半精磨、精磨;
          2.可對(duì)試樣進(jìn)行精密拋光;
          3.雙人操作,更方便;
          4.一鍵開(kāi)關(guān),更省心;
          5.自帶冷卻裝置;

          應(yīng)用領(lǐng)域
          適用于對(duì)金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光至精拋光過(guò)程進(jìn)行自動(dòng)制樣工廠、企業(yè)、科研單位以及大專(zhuān)院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。
          產(chǎn)品結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
          效率,節(jié)約成本,細(xì)微之處,方見(jiàn)品質(zhì)!

          金相試樣磨拋機(jī)VISPOL 1500為雙盤(pán)式機(jī),可兩人同時(shí)操作使用,適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過(guò)變頻器調(diào)速,可直接獲得50~1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速,從而使本機(jī)具有更加廣泛的應(yīng)用性。是用戶(hù)用來(lái)制作金相試樣*的設(shè)備。本機(jī)帶有冷卻裝置,可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。該機(jī)使用方便、*全*靠,是工廠、科研單位以及大專(zhuān)院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。
          整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊,操作方便,耐用性好
          本機(jī)帶有冷卻裝置,可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。該機(jī)左盤(pán)為預(yù)磨、研磨盤(pán),右盤(pán)為拋光盤(pán)。該機(jī)不但可以對(duì)試樣進(jìn)行輕磨、粗磨、半精磨、精磨,還可以對(duì)試樣進(jìn)行精密拋光。
          研磨拋光過(guò)程圖解

          怎樣過(guò)程中,下一程序遺留下來(lái)的變形層的同時(shí),自己也會(huì)引入新的變形層,如何有效的選擇每一程序過(guò)程中涉及的設(shè)備和耗材,對(duì)于顯微樣品的制備效率和結(jié)果至關(guān)重要。

          技術(shù)參數(shù)規(guī)格



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