*Heidolph的磁力攪拌器，歸因于其能夠流暢地強烈混合低粘度溶液。
以應(yīng)用為依靠，它們能夠同時混合和加熱。它們是分解有機物和無機物的
*。
Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點
• 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
• 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈
• 800W的加熱能力，快速加熱
• 轉(zhuǎn)速zui大可達到14，000rpm
• 強大磁力，輕松驅(qū)動攪拌子
• zui多可攪拌20L水
• 免維護的發(fā)動機，啟動順暢
• 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃
• 高效率驅(qū)動，低效率消耗
• 包裹防腐蝕材料的硅合金機身，持久耐用
加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
• 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
•優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
•優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達到預(yù)設(shè)定的溫度差時
•獨立線路開關(guān)自動停止加熱
•*避免錯誤的溫度設(shè)定
•速度范圍: 30 - 1,400 rpm
•出眾的溫度控制精度: ±1 %
•數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實際值）
•加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C
•介質(zhì)溫度范圍:zui高 250
•精確溫度設(shè)定：±1K
•當(dāng)停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量
•照明開關(guān)
•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）
MR Hei-Tec
•800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實際溫度
•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
•介質(zhì)溫度范圍: zui高達 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•當(dāng)溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關(guān)自動停止加熱
•照明開關(guān)
•電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
•精確溫度設(shè)定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）
MR Hei-Tec
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
MR Hei-Tec [ ]
•與 MR Hei-Tec 參數(shù)*
•正方形加熱盤
•加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成
•加熱盤尺寸 w x d （mm）: 132 x 132
MR Hei-Standard
• 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
•介質(zhì)溫度范圍: zui高達 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•當(dāng)溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關(guān)自動停止加熱
•電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
•精確溫度設(shè)定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）
攪拌單功能
MR Hei-Mix D
•數(shù)字顯示，電子速度控制
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 （V2A）
•加熱盤直徑: 145 mm
•延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤
•推薦用于細胞生物學(xué)實驗室
MR Hei-Mix L
•與MR Hei-Mix D參數(shù)*, 無數(shù)字顯示
MR Hei-Mix S
•白色, 抗化學(xué)腐蝕 PVDF 加熱盤
•特別推薦用于滴定
•加熱盤直徑: 105 mm
•電子速度控制，無數(shù)字顯示
•大范圍速度設(shè)定: 0 - 2,200 rpm
•機身: 抗化學(xué)腐蝕材料聚氨酯
•zui小的空間需要:
126 ×80×140 mm （w × h × d）
| 
| 
| 
| 
| |
| 加熱攪拌MR Hei-End | 加熱攪拌MR Hei-Tec/Tec[] | 加熱攪拌MR Hei-Standard | 攪拌MR Hei-Mix D/L/S | |
