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臺(tái)式精準(zhǔn)氣氛壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL
臺(tái)式精準(zhǔn)氣氛壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。Moorfield Nanotechnology將樣品、襯底等材料的熱處理上升到與納米材料的制備同樣的技術(shù)高度。通過精準(zhǔn)的真空度與氣氛控制以及高精度的溫度控制使樣品的熱處理過程變得和樣品的制備過程樣高度可控。西班牙光子科學(xué)研究所、英國國家物理實(shí)驗(yàn)室、曼徹斯大學(xué)等用戶對(duì)該設(shè)備的性能都給與了高度的評(píng)價(jià)。
ANNEAL有強(qiáng)大的真空、氣氛控自動(dòng)制系統(tǒng)，從高真空到各種氣氛都可以高精度自動(dòng)控制。ANNEAL可實(shí)現(xiàn)Ar, O2, N2，H2等多種氣體高精度的流量控制。ANNEAL有多種加熱方案滿足對(duì)不同溫度的需求。完備的安全設(shè)計(jì)方案與*的尾氣稀釋方案可以確保即使是在氫氣氣氛下退火也可以輕松掌控。系統(tǒng)配備的觸屏式自動(dòng)控制系統(tǒng)滿足退火程序的設(shè)定與存儲(chǔ)。
加熱方式： 石英燈：溫度高達(dá)600℃，可兼容4英寸、6英寸樣品臺(tái)，可兼容多數(shù)氣氛。 CCC碳化物：500℃以上需求的常選方案，溫度可達(dá)1000℃，適用于非氧氣環(huán)境。 SiC保護(hù)的碳材料：兼容氧氣氛圍與多數(shù)氣體氛圍的增強(qiáng)型加熱材料。 主要點(diǎn)： ◎ 高精度氣氛自動(dòng)控制 ◎ 4英寸、6英寸樣品臺(tái) ◎ 高達(dá)1000℃的加熱溫度 ◎ 本底真空<5×10-7 mbar ◎ 簡單快速取樣 ◎ 設(shè)定、保存多個(gè)熱處理程序 ◎ 完備的安全性設(shè)計(jì) ◎ 易于維護(hù) ◎ 兼容超凈室 ◎ 穩(wěn)定的性能表現(xiàn) 系統(tǒng)選件： ◎ 4英寸、6英寸樣品臺(tái) ◎ 石英燈加熱系統(tǒng) ◎ 電阻式加熱系統(tǒng) ◎ 流量計(jì)精確控制 ◎ 分子泵、機(jī)械泵真空系統(tǒng) ◎ 氣壓全自動(dòng)控制系統(tǒng) |
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