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          一維范德華晶界中的巨大體光伏效應!ML3再登Nature Commun.

          時間:2024-4-2閱讀:402

          論文題目:Giant intrinsic photovoltaic effect in onedimensional van der Waals grain boundaries

          發(fā)表期刊:Nature Communications IF: 17.65

          DOI: https://doi.org/10.1038/s41467-024-44792-4


          【引言】


          光伏效應作為一種重要的綠色環(huán)保能源收集手段,已在眾多領域得到廣泛應用。然而,傳統(tǒng)PN結中的光電轉換效率受到Shockley-Queisser極限的限制,無法進一步提高。因此,研究者將目光轉向了非中心對稱材料。在這種材料中,當受到均勻光照,且無外接偏壓的條件下,就可以產生直流光電流。這種光電轉換現(xiàn)象由于只受到材料本征對稱性的影響,被稱為材料的本征光電轉換效應(IPVE)。由于材料本征的IPVE不受Shockley-Queisser極限的限制,為進一步提高光電轉換效率提供了研究思路。


          【成果簡介】


          2024年2月,南方科技大學相關團隊使用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3在光電轉化器件的制備及應用等方面取得重要成果。作者利用ReS2材料中一維范德華晶界(vdW GBs)制備了基于IPVE效應的光電轉換器件。根據實驗測量結果,所制備出的光電轉換器件具有同類器件中最高的IPVE效率。此外,研究發(fā)現(xiàn)利用不受極化影響的門電極可對vdW GBs的IPVE轉換效率進行調節(jié),更有利于能量的收集。相關工作以《Giant intrinsic photovoltaic effect in onedimensional van der Waals grain boundaries》為題,在SCI期刊《Nature Communications》上發(fā)表。


          文中使用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3克服了傳統(tǒng)光刻工藝中需要掩膜版的難題,通過電腦控制DMD微鏡矩陣開關,經過光學系統(tǒng)調制,直接在光刻膠上曝光繪出所要的圖案。與此同時,該設備還具備結構緊湊(70cm X 70cm X 70cm)、直寫速度高,高分辨率(XY:<1 μm)等特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。憑借這些優(yōu)勢,MicroWriter ML3為本研究光電器件的成功制備提供了關鍵技術支持。



          圖1. 小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3


          【圖文導讀】



          圖2. ReS2材料中vdW GBs的表征。(a)ReS2材料的STEM和HAADF表征結果。(b)ReS2材料中晶界的STEM和HAADF表征結果。(c)材料晶界附近的頂視示意圖。(d)和(e)材料極化和非極化條件下的光學表征結果。(f)材料的極化拉曼表征結果。



          圖3. 在ReS2晶界的IPVE效應。(a)利用MicroWriter ML3無掩模光刻機制備的光電轉換器件。(b)沿y方向光電流在材料不同位置的測量。(c)掃描光電光譜儀對材料光電流的表征結果。(d)沿x方向光電流在材料不同位置的測量。(e)在晶界處的極化分辨光電流。(f)極化獨立項的空間分布。



          圖4. 通過調節(jié)電壓實現(xiàn)對ReS2的IPVE轉換效率的調節(jié)。(a)利用MicroWriter ML3制備的光電轉換器件。(b)在不同電壓下,IPVE效應所產生的光電流對應的值。



          圖5. 論文Supplementary Information中利用MicroWriter無掩模光刻機的所制備的光電器件。


          【結論】


          論文中,南方科技大學相關團隊利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3制備了基于ReS2一維vdW GBs的光電轉換器件。由于該器件利用了IPVE效應,突破了傳統(tǒng)PN結中的Shockley-Queisser光電轉換極限。與同類器件相比,論文中所制備出的光電轉換效率也處于優(yōu)異水平。該工作不僅制備出高轉換效率的光電器件,還為光電轉換效率的提高打下堅實的理論基礎。從論文中還可以看出,MicroWriter ML3無掩模光刻機得益于其強大的光刻和套刻能力,可以十分方便地實現(xiàn)實驗中所設計圖形的曝光,是各學科科研中制備各類微納器件的得力助手。


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