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雙靶磁控濺射儀結(jié)構(gòu)

（點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）

輸入電源

• 220VAC 50/60Hz, 單相
• 2000W  (包括泵)

濺射電源

• 安裝有兩個(gè)濺射電源
• 直流（DC）電源：500W，針對(duì)于制作金屬膜
• 射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜
• 同時(shí)可選配300W的射頻電源
  

磁控濺射頭

• 儀器中安裝有2個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對(duì)靶材降溫
• 其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
• 另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
• 靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
•              陶瓷靶：直徑為50mm,zui大厚度6mm
• 儀器中標(biāo)配一個(gè)不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
• 濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）
  

也可以根據(jù)自己的要求選擇2個(gè)射頻濺射頭或3個(gè)射頻濺射頭，訂購(gòu)前需于本公司銷(xiāo)售人員

真空腔體

• 真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作
• 觀察窗口：  100 mm diameter
• 腔體打開(kāi)方式采用上頂開(kāi)，使得換靶更加容易
  

載樣臺(tái)

• 載樣臺(tái)尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）
• 載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）
• 載樣臺(tái)zui高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
  

氣體流量控制器

• 儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)
• 量程為：0-200sccm
• 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作

真空泵系統(tǒng)

配有一套分子泵系統(tǒng)（德國(guó)制作），采用一鍵式操作

薄膜測(cè)厚儀

• 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å  
• LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
  

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，終生維護(hù)