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德國(guó)徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

使用德國(guó)徠卡 鍍膜儀 EM ACE600，充滿信心地制備用于電鏡分析的細(xì)粒度薄膜。 精確的自動(dòng)化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴的可重現(xiàn)結(jié)果，提高每次運(yùn)行的樣本產(chǎn)出。

僅供研究使用

適合廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機(jī)裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。 實(shí)現(xiàn)工作流程目標(biāo)，滿足實(shí)驗(yàn)室需求——可在同一個(gè)制備過(guò)程中運(yùn)行兩個(gè)不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用于高級(jí)冷凍工作流程。

通過(guò)方便的前門裝載方法、僅需按下一個(gè)按鈕即可啟動(dòng)的收料即鍍式自動(dòng)化鍍膜過(guò)程，EM ACE600 可以讓您簡(jiǎn)單可靠地制備常規(guī)樣本并節(jié)省寶貴的時(shí)間。

無(wú)論您需要……

對(duì)扁平或結(jié)構(gòu)化的非導(dǎo)電樣本進(jìn)行高分辨率成像

增強(qiáng)納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）的對(duì)比度

生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅(jiān)固的支撐層，或者

為敏感樣本提供保護(hù)層

擴(kuò)展冷凍應(yīng)用中的系統(tǒng)

……>使用 EM ACE600 碳 鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，皆可實(shí)現(xiàn)。

帶冷凍傳輸裝置的 EM ACE600 碳、電子束和濺射鍍膜機(jī)

濺射涂層碳涂層

通過(guò)濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng)，每次運(yùn)行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動(dòng)化濺射鍍膜工藝，滿足先進(jìn)鍍膜所需的適當(dāng)條件并實(shí)現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。

可進(jìn)行高達(dá) 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎(chǔ)真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細(xì)均衡調(diào)整工藝參數(shù)。 根據(jù)樣本形態(tài)的需要調(diào)整樣本距離和鍍膜角度。

為進(jìn)一步加強(qiáng)鍍膜效果，可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar，之后再嘗試對(duì)氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

不同材料的2納米厚的細(xì)粒度濺射鍍膜，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率。

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。 它需要具有導(dǎo)電性，但對(duì)電子束透明，并且不能具有顆粒結(jié)構(gòu)。

采用自適應(yīng)脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅(jiān)固并具有導(dǎo)電性，還可以通過(guò)烘焙法進(jìn)一步減少污染。 最終，這類薄膜提供：

對(duì)電子的高透明度

足以承受電子轟擊的強(qiáng)度

均勻的厚度，這對(duì)于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要

A：常規(guī)碳膜（15納米碳）；B：超薄碳膜（3納米）。 輕松觀察硒化鎘 (CdSe) 量子片的晶格。 圖片由比利時(shí) Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT，安特衛(wèi)普大學(xué)）采集。 提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh，烏特勒支大學(xué)納米材料科學(xué)研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）

按需配置 EM ACE600

通過(guò) EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺(tái)鍍膜機(jī)運(yùn)行多個(gè)制程。 同時(shí)，將濺射頭與先進(jìn)的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個(gè)濺射源，可在一次制備過(guò)程中完成多層金屬鍍膜。

采用經(jīng)過(guò)優(yōu)化的帶兩個(gè)斜角端口和一個(gè)旋轉(zhuǎn)臺(tái)的雙源方法，可在整個(gè)100毫米樣本臺(tái)上生成均勻分布的薄膜

有穩(wěn)定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機(jī)濺射源可供選擇

為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

可隨時(shí)在現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)

適用于雙源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發(fā) | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發(fā) | 4- 電子束蒸發(fā)

專注于制備過(guò)程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，只需按下一個(gè)按鈕即可讓您充滿信心地完成常規(guī)樣本制備。 簡(jiǎn)單可靠的工作流程和便捷的標(biāo)準(zhǔn)操作程序讓您能夠?qū)Ｗ⒂陔婄R樣本制備的關(guān)鍵部分。 您可以專注于優(yōu)化工作流程，減少自己學(xué)習(xí)操作方法或培訓(xùn)他人使用方法的時(shí)間。

通過(guò)前門安全裝卸敏感樣本

基于工作流程的用戶界面，可快速訪問(wèn)相關(guān)參數(shù)，全程引導(dǎo)式操作

輕量、穩(wěn)定的濺射源，方便日常操作

EM ACE600 觸摸屏，通過(guò)基于工作流程的用戶界面操作

擴(kuò)展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實(shí)驗(yàn)室電鏡實(shí)驗(yàn)?zāi)芰Α?將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過(guò) EM VCT500 傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)分析。

EM ACE600 提供：

用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺(tái)

基本型斷裂裝置

選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，滿足實(shí)驗(yàn)室日常工作需求。

有各種樣本支架和樣本臺(tái)可供選擇，例如帶有多達(dá) 3 個(gè)電動(dòng)軸的 3 軸樣本臺(tái)或?qū)Ｓ美鋮s臺(tái)。 可快速更換的樣本臺(tái)基片使 EM ACE600 成為多功能工具。

1：電動(dòng) 3 軸樣本臺(tái) | 2：旋轉(zhuǎn)投影（LARS）樣本臺(tái) | 3：旋轉(zhuǎn)“手動(dòng)"樣本臺(tái) | 4：冷凍臺(tái)

旋轉(zhuǎn)投影—使納米級(jí)結(jié)構(gòu)清晰可見(jiàn)

以專用小角度旋轉(zhuǎn)投影（LARS）設(shè)置配置 EM ACE600，可在透射電鏡中對(duì)納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）成像。 EM ACE600 電子束源與電動(dòng) LARS 樣本臺(tái)將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺(tái)幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)掠角入射沉積。 用細(xì)粒度鉑層以小角度對(duì) DNA 鏈進(jìn)行投影鍍膜，然后添加碳層穩(wěn)定脆性結(jié)構(gòu)，以便在 TEM 中進(jìn)行分析。

出芽酵母（S.cerevisiae，釀酒酵母）的 DNA 復(fù)制分叉的 TEM 圖片，使用 EM ACE600 電子束鍍膜機(jī)通過(guò)小角度旋轉(zhuǎn)投影方法獲得

為實(shí)驗(yàn)選擇合適的工作流程

EM ACE600 有助于您在進(jìn)行材料科學(xué)和生物學(xué)實(shí)驗(yàn)時(shí)獲得高質(zhì)量的結(jié)果。

工作流程包括標(biāo)準(zhǔn)透射電鏡和掃描電鏡樣本制備、切片斷層掃描 3D 工作流程、聚焦離子束掃描電鏡 (FIB SEM) 等。 如需詳細(xì)了解以下領(lǐng)域的工作流程解決方案：

生命科學(xué)研究，請(qǐng)下載工作流程手冊(cè)

材料科學(xué)研究，請(qǐng)下載工作流程手冊(cè)