目錄:孚光精儀(中國)有限公司>>光學測量系列>>光學薄膜測量>> SE200BA-MSP反射式光譜橢偏儀
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這款反射式光譜橢偏儀MSP具有250-1000nm的波長范圍,可與顯微分光光度計聯(lián)合使用,測量極小斑點的薄膜厚度和折射率,可廣泛用于MEMS,半導體晶圓等領(lǐng)域,是反射光譜橢偏儀品牌中光譜橢偏儀價格較低的橢偏儀。
spectroscopic ellipsometer,從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長非常適合測量超薄薄膜,比如納米厚度薄膜厚度,比如硅晶圓的薄膜厚度,典型值在2nm左右。對于測量許多材料的帶隙,深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術(shù)是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測量技術(shù)。
與反射計或反射光譜技術(shù)不同的是,光譜橢偏儀參數(shù)Psi 和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變?nèi)肷浣谴笮?,可獲得許多組數(shù)據(jù),這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測量薄膜或樣本表面的能力,因此變角橢偏儀功能遠遠大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種,一種是手動調(diào)節(jié),一種是自動調(diào)節(jié)入射角,我們可提供兩種模式的橢偏儀。
反射式光譜橢偏儀MSP特色
易于安裝,拆卸和維護
良好的光學設計
自動改變?nèi)肷浣?,入射角分辨率高達0.01度
高功率250-1100nm光源適合多種應用
采用陣列探測器確保高速測量
測量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于實或在線監(jiān)測薄膜厚度和折射率
具有齊全的光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫
提供工程師模式,服務模式和用戶模式三種使用模式
靈活的工程師模式用于各種安裝設置和光學模型測量
一鍵快速測量
全自動標定和初始化
精密樣品準直界面直接樣品準直,不需要額外光學
精密高度和傾斜調(diào)整
適合不同材料和不同后的樣品襯底基片
2D和3D數(shù)據(jù)顯示輸出
反射式光譜橢偏儀MSP參數(shù)
波長范圍:250-1000nm, 與顯微分光光度計聯(lián)合使用時400-850nm
波長分辨率:~1nm
測量點大?。?-5mm可調(diào)
入射角:10-90度可調(diào)
入射角分辨率:0.01度
數(shù)字成像:130萬像素
有效放大倍數(shù):1200X
物鏡工作距離:12mm
顯微分光光度計光束大?。?10-500微米可調(diào)
可測樣品大?。焊哌_300mm 直徑
可測樣品厚度:高達20mm
測量薄膜厚度:0nm ---10um
測量時間:~1s/點
精度:~0.25%
重復精度:<1A
反射式光譜橢偏儀可選配件
反射或透射光度測量配件
微點測量小面積
X-Y位移臺用于厚度繪圖
加熱臺/制冷臺用于薄膜動力學研究
垂直樣品安裝測角計
波長拓寬到IR范圍
掃描單色儀配置