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        1. 岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司

          • Dymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng) 參考價(jià): 面議

            參考價(jià): 面議 型號(hào):HERCULES
            光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過(guò)集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動(dòng)化功能,完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機(jī)Track...
            型號(hào): HERCULES 品牌:EVG所在地:上海市 對(duì)比
            HERCULESEVG納米壓印光刻機(jī)
            2024/11/9 15:09:323177
          • Dymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價(jià): 面議

            參考價(jià): 面議 型號(hào):IQ Aligner NT
            ?新型IQ Aligner NT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件,新的晶圓處理硬件,可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件...
            型號(hào): IQ Aligne... 品牌:EVG所在地:上海市 對(duì)比
            光刻機(jī)光刻掩膜掩模曝光
            2024/11/9 16:20:011320
          • EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 參考價(jià): 面議

            參考價(jià): 面議 型號(hào):
            EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 特色:EVG ® 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。
            型號(hào): 品牌:EVG所在地:上海市 對(duì)比
            自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格納米壓印機(jī)
            2024/11/9 13:13:263099
          • IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價(jià): 面議

            參考價(jià): 面議 型號(hào):
            IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,進(jìn)行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達(dá)200毫米。
            型號(hào): 品牌:EVG所在地:上海市 對(duì)比
            自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格
            2024/11/9 12:34:332147
          • EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 參考價(jià): 面議

            參考價(jià): 面議 型號(hào):EVG610
            EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610(單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 微流控 納米壓印)支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對(duì)準(zhǔn)...
            型號(hào): EVG610 品牌:EVG所在地:上海市 對(duì)比
            EVG光刻機(jī)微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機(jī)
            2024/11/9 12:10:298557

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