這對回收廠而言無疑是個好消息，提供用于分析和分揀廢料的設備可應對需求。日立最新推出的直讀光譜儀OE720和OE750分析準確、性價比高，可滿足回收場的要求。對于當今廢料場和高端回收廠所面臨的主要挑戰(zhàn)，這些先進儀器的應對方式如下：

處理巨大的廢料周轉量

大型回收廠或廢料場可能需要分揀大量黑色金屬和有色金屬廢料。此類大型回收廠通常每周可分揀高達數(shù)萬噸金屬廢料。快速分揀和驗證每塊金屬廢料的確切成分的能力至關重要，以便可以快速分析不斷到達回收廠的大量廢料。

而OE720/OE750恰好可以提供其所需的快速分析。分析本身只需二十多秒鐘，這些儀器設計的啟動時間快速，可以減少每班開始時的停機時間。

準確識別作為原料供應的金屬的精確成分

傳統(tǒng)上，手持式XRF光譜儀用于分離和分揀廢料金屬。然而，隨著鑄造行業(yè)需求的增長，OES分析技術在確?；厥盏匿X、銅和鐵均符合適用于熔化原料的高標準方面變得越來越重要。。

然而，并不是所有的OES儀器都*相同。OE系列中的兩種儀器都采用了CMOS探測器技術，并配有LightWing光學設計。這種組合意味著僅需一臺儀器即可在ppm含量范圍內探測金屬中的所有元素，可以滿足當今行業(yè)需求。

符合嚴格的法規(guī)

回收金屬的質量要求可能推動著高端分析的發(fā)展，但這不是回收廠面臨的唯一挑戰(zhàn)。為了在當今的環(huán)境中保持競爭力并有資格成為冶煉廠的供應商，回收廠必須遵守不斷增加的各種環(huán)境、安全、放射性和運輸法規(guī)。

而OE系列儀器可確保分析結果可靠且可追溯，從而幫助回收廠滿足上述法規(guī)要求。該系列儀器與日立基于云的數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)ExTOPE Connect相連，確保用戶可以在需要時獲取分析結果，這在審核時極為有用。 

能夠分析不同類型的金屬，包括銅和鋁

為了最大限度地利用回收廢料，擁有能夠分析不同基體金屬中的雜質和痕量元素的分析儀器非常重要。

OE系列中的CMOS探測器可以探測銅、鋁和鐵基中的關鍵元素。例如，它可以極低的檢出限測定近共晶和過共晶鋁硅合金中的磷，OE750可以分析鋼鐵中的氮、鈦中的氫和氧以及銅中的氧。

成本效益

OE720火花光譜儀涵蓋了金屬中非氣態(tài)元素的全部譜線，OE750還增加了氣體分析功能。此類分析儀所采用的突破性技術使其分析能力能夠與更昂貴的分析儀媲美，為許多回收廠帶來高質量的分析。但成本節(jié)約額并不止于此。這些儀器的設計運行成本低，與之前的型號相比，氬氣和功耗大幅減少。