然而制造鋁鑄件的過(guò)程十分困難。若想要讓最終的材料具備所需的性能，則必須注意控制熔體中的元素。*的熔體控制方法是使用直讀光譜儀（OES）進(jìn)行分析。然而，并非所有的直讀光譜儀都具有相同的性能，必須格外注意鋁，因?yàn)槟承┓治鰞x可能檢測(cè)不出一些必須被控制在極低限值的元素。

日立推出的新型OE720火花光譜儀旨在以吸引人的價(jià)格提供高性能。這意味著對(duì)于通常需要專(zhuān)業(yè)儀器才能檢測(cè)的元素，如磷和銻，可以通過(guò)OE720在低檢出限下對(duì)其進(jìn)行檢測(cè)。

OE720低檢出限對(duì)于鋁熔煉控制非常重要

OE720光譜儀新設(shè)計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)提供了更高級(jí)別的光學(xué)分辨率，CMOS檢測(cè)器技術(shù)可確保在極低檢出限下檢測(cè)多種元素。這意味著，可以在近共晶和過(guò)共晶鋁硅合金中檢測(cè)出含量低至20ppm的磷，并且可以控制銻、鉍、鋰、鍶和鈉的含量，以確保最佳的結(jié)構(gòu)改進(jìn)。

這一高性能功能使用戶(hù)能夠驗(yàn)證鋁熔體中的雜質(zhì)元素磷、鈣、鉍和銻是否符合120ppm的最大總量。

下表顯示OE720在關(guān)鍵鋁元素上的性能：