提拉鍍膜法是種廣泛應(yīng)用于科研方面薄膜制備的方法。而在業(yè)商,更多的則使用旋涂鍍膜法。其主要關(guān)鍵元器件由美口,提拉機(jī)是門用于薄膜制備可行性研究的鍍膜具,它采用了浸泡提拉的鍍膜。
過(guò)程
提拉鍍膜法就是把需要鍍膜的基片浸入溶液中,通過(guò)預(yù)設(shè)置的速度,在定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉出來(lái)。
提拉過(guò)程可以分為5個(gè)步驟:
1 浸入溶液:將基片以預(yù)設(shè)定的速度(無(wú)何抖動(dòng))侵入鍍膜溶液中
2 浸泡:讓基片在溶液中浸泡定的時(shí)間,然后準(zhǔn)備提拉
3 沉積:在提拉的過(guò)程中,薄膜會(huì)沉積在基片上。提拉的速度穩(wěn)定,避免何抖動(dòng)。提拉速度是膜層厚度個(gè)重要的決定因素。(提拉速度越快,膜層厚度越厚)
4 溢:多余的溶液會(huì)在提拉的過(guò)程中從基片表面上掉
5 揮發(fā):溶劑從溶液中揮發(fā)掉,在基片表面上形成薄膜。易揮發(fā)的溶劑如酒。揮發(fā)過(guò)程在沉積和溢的過(guò)程中會(huì)同時(shí)行。
因素
1 提拉速度(提拉的速度非常穩(wěn)定,避免抖動(dòng))
2 固體含量
3 液體粘度決定