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PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
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GENxcel R&D分子束外延MBEPX 1800
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SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
GEN200分子束外延MBEPX 1800
Esther/Eris 系列8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)PX 1800
線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Hesper Ⅱ E630R plus12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)PX 1800
Hesper E230A12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)PX 1800
MBE 8000分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
GEN2000分子束外延MBEPX 1800
Hesper I E430R12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)PX 1800
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
MARS iCE115碳化硅外延系統(tǒng)PX 1800
MARS iCE120多片碳化硅外延系統(tǒng)PX 1800
Epiluvac ER3-C1SiC分子外延系統(tǒng)PX 1800
AIX 2800G4-TM化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1800
PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
customized高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
eVictor系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
JGP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
JGP560高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)PX 1800
FJL560高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Phoenix原子層沉積ALDPX 1800
PLD300高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
SENTECH ALAL實時監(jiān)控器PX 1800
PLD450高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
MOCVD金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
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