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原子層沉積設(shè)備PX 2029
PECVD等離子沉積設(shè)備PX 2029
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2029
等離子沉積設(shè)備PX 2029
PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版PX 3255
PICOSUN ALD原子層沉積系統(tǒng)PX 3255
ALD R-200 ALD R-200PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)-高級(jí)版PX 3255
ALD R-200PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200基礎(chǔ)版PX 3255
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 3255
線列式PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Cluster PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
customized低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 1800
customized等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
customized化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 1800
PRO Line PVD 200多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)PX 1800
PD-200STL等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)PX 1800
PD-270STLC等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 1800
PD-100ST等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 1800
CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 1800
LAB Line磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 1800
AL-1無(wú)針孔薄膜沉積設(shè)備PX 1800
AD-230LP等離子體沉積ALDPX 1800
NANO 36™濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Mini SPECTROS沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1800
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
SPECTROS™ 150有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1800
PD-220NL化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 1800
Super-SPECTROS™ 200有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1800
PD-3800L化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
ALD-150LX™原子層沉積ALDPX 1800
PD-2201LC化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備PX 1800
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
ALD-150LE™原子層沉積ALDPX 1800
NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 1800
PVD-BATCH DRUM薄膜沉積PVD設(shè)備PX 1800
Satur系列多片式MOCVD系統(tǒng)PX 1800
NEXUS IBD離子束沉積設(shè)備PX 1800
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
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