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G-CVD 石墨烯Graphene化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 北京科銳精儀科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) G-CVD
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2015/7/21 12:15:59
- 訪問(wèn)次數(shù) 1131
產(chǎn)品標(biāo)簽
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石墨烯（Graphene）自2004年發(fā)現(xiàn)以來(lái)，在短短數(shù)年間已經(jīng)成為凝聚態(tài)物理、化學(xué)、生命科學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域研究中倍受矚目的“明星材料”。幾年內(nèi)，在SCI雜志上，發(fā)表了上萬(wàn)篇關(guān)于石墨烯的文章，這種研究熱度將維持很長(zhǎng)時(shí)間。
化學(xué)氣相沉積（CVD）是目前制備石墨烯的zui有效、也是研究?jī)r(jià)值的方法。但搭建一套完整而高效的石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)并非易事。即使在系統(tǒng)搭建完成后，要真正制備出單層石墨烯，還需要長(zhǎng)時(shí)間的參數(shù)優(yōu)化。往往使得科研人員錯(cuò)過(guò)了*的研究時(shí)機(jī)。
G－CVD石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)由北京科銳精儀公司與國(guó)內(nèi)*石墨烯研究機(jī)構(gòu)合作開(kāi)發(fā)，提供完整的石墨烯生長(zhǎng)系統(tǒng)?？芍苽涓哔|(zhì)量大面積石墨烯（zui大厘米量級(jí)）
系統(tǒng)內(nèi)置了在不同襯底上制備石墨烯所需要的參數(shù)，用戶(hù)只需簡(jiǎn)單的選擇襯底類(lèi)型，可以輕松的制備出自己的石墨烯。為研究人員節(jié)省大量時(shí)間。
同時(shí)，G－CVD還可用于納米金剛石、碳納米管，及其它材料的CVD生長(zhǎng)制備。
主要參數(shù)：
樣品腔
溫度范圍：室溫~1050度
功率：2.5 kW
末端口：不銹鋼法蘭接口，外置水冷卻
進(jìn)樣方式：手動(dòng)
氣路及真空
氣體：
Ar 純度99.99%以上，40L，配惰性氣體減壓閥，流量0~1000 sccm；
H2 純度99.999%，40L，配氫氣減壓閥，流量0~200 sccm；
CH4 純度99.999%，40L，配減壓閥，流量0~10 sccm （更大量程可選）；
13CH4 純度99.999%，10L，配減壓閥，流量0~10 sccm （限同位素CVD系統(tǒng)）；
機(jī)械泵：
抽速400 L/min，極限真空5x10-3 Torr，油霧過(guò)濾
液氮冷阱：用于獲得更高真空（可選配件）
過(guò)壓泄氣閥：大于760Torr，自動(dòng)開(kāi)啟
真空調(diào)節(jié)閥：調(diào)節(jié)樣品腔內(nèi)的氣壓，手動(dòng)（自動(dòng)控制式可選）
控制模塊：
溫度、氣流及真空采用計(jì)算機(jī)控制，其中部分功能也可以采用手動(dòng)控制。計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)控制和顯示所有與生長(zhǎng)有關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù)，自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù)，給實(shí)驗(yàn)帶來(lái)*的方便，并提高實(shí)驗(yàn)的精確性。
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