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          產(chǎn)品展廳

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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>恒溫/加熱/干燥>馬弗爐/電阻爐/實(shí)驗(yàn)爐>LHT GR 3000 °C高溫石墨爐

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          LHT GR 3000 °C高溫石墨爐

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 沈陽沐倫科技有限公司
          • 品牌 Carbolite Gero/卡博萊特 蓋羅
          • 型號(hào) LHT GR
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
          • 更新時(shí)間 2024/12/9 9:48:41
          • 訪問次數(shù) 59

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          質(zhì)量鑄就品牌 服務(wù)贏得市場

                                      ——沈陽沐倫科技有限公司   
          我們是一家面向中國東北地區(qū)專業(yè)從事儀器、設(shè)備銷售及服務(wù)的公司,公司代理多家世界儀器制造商的產(chǎn)品,并為其用戶提供相應(yīng)的技術(shù)支持與完善的售后服務(wù)工作。
              公司立志為中國高水平實(shí)驗(yàn)室建設(shè)發(fā)展貢獻(xiàn)力量,秉承“一切以用戶為核心”的理念,通過為用戶提供技術(shù)交流平臺(tái),技術(shù)方案咨詢,應(yīng)用設(shè)備選型及儀器體驗(yàn)試用等手段,力爭能夠快速地提供滿足客戶需求的系列標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品和定制化產(chǎn)品。
              公司代理的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于出入境、食品檢測中心、疾控中心、藥檢所、中科院、農(nóng)科院、高校、石油化工、制藥等食品檢測和實(shí)驗(yàn)室分析等技術(shù)領(lǐng)域。我們致力于為客戶提供高質(zhì)量、高品質(zhì)的售前售后服務(wù),不斷完善技術(shù)服務(wù)體系,持續(xù)提高客戶滿意度。
            “以誠立企,以信興業(yè)”沈陽沐倫科技有限公司愿與業(yè)內(nèi)同行及廣大用戶共同成長。

          經(jīng)營產(chǎn)品 :

          德國萊馳:粉碎、研磨、篩分、粒度分析儀

          德國卡博萊特·蓋羅(300-3000℃):箱式馬弗爐、管式馬弗爐、烘箱

          美國ANKOM:膳食纖維測定儀、脂肪測定儀、纖維測定儀、蛋白測定儀

          英國普律瑪:超聲波清洗、水浴、搖床、手持式勻漿、攪拌器

          德國Stephan:花生粉碎機(jī)、奶酪粉碎機(jī)

          實(shí)驗(yàn)室研磨粉碎儀,篩分儀,高溫爐,全自動(dòng)脂肪儀,纖維儀,膳食纖維儀,勻漿離心機(jī),超聲波清洗等儀器儀表

          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
          儀器種類 箱式爐 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,石油,地礦,冶金
          最大功率 85kW 最高溫度 3000℃

          3000 °C高溫石墨爐

          LHT 3000 °C高溫石墨爐系列的特別之處在于設(shè)計(jì)緊湊,是研發(fā)環(huán)境中實(shí)驗(yàn)室的理想工具。 實(shí)驗(yàn)室爐的圓柱形可用空間被加熱元件和隔熱材料包圍。加熱室與水冷容器融為一體。由于體積小,LHT 非常適合用于小型樣品,而且所需的操作空間也很小。 系統(tǒng)由一個(gè)框架平臺(tái)支撐,該平臺(tái)支撐著加熱爐和裝有軟件控制裝置的電子柜。支撐平臺(tái)上裝有腳輪,可使整個(gè)系統(tǒng)輕松移動(dòng)。對于大學(xué)和工業(yè)研究實(shí)驗(yàn)室來說,LHT 系列非常適合此類操作區(qū)域。 該系統(tǒng)整體尺寸小,操作簡單,成本效益高,在溫度均勻性或氣氛質(zhì)量方面不會(huì)有任何性能損失。此外,圓柱形設(shè)計(jì)適合超壓熱處理工藝。根據(jù)要求,該系統(tǒng)可配備適當(dāng)?shù)逆i定裝置和所有必要設(shè)備,用于安全超壓操作,最高壓力可達(dá) 100 巴。 金屬 LHT 型基于鎢或鉬制成的加熱元件和輻射屏蔽,最高溫度分別為 2200 °C 和 1600 °C。輻射罩的作用是將加熱元件的熱量與水冷容器隔開。金屬 LHT 系統(tǒng)可提供最高的大氣純度和最佳的最終真空度。渦輪分子泵與前置泵相結(jié)合,可使工作真空達(dá)到高真空區(qū)域。根據(jù)要求,還可提供超高真空配置。

          應(yīng)用實(shí)例:

          金屬注塑成型

          標(biāo)準(zhǔn)參數(shù):

          ▏ 緊湊設(shè)計(jì)貼合實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用需求

          ▏ 最佳真空度

          ▏ 高真空度可能 低于5x10-6 mbar

          ▏ 分壓范圍10-1000mbar

          ▏ 高壓最高至100bar

          ▏ 石墨制加熱元件最高達(dá)3000°C

          ▏ 可提供氫分壓控制

          ▏ 粉末樣品抽真空操作平穩(wěn)可控

          ▏ 數(shù)據(jù)記錄,用于質(zhì)量管理

          作用原理:

          LHT 3000 °C高溫石墨爐內(nèi)部:1.水冷爐膛2.加熱元件3.頂蓋,手動(dòng)操作4.熱電偶5.頂部的熱輻射屏蔽6.爐體輻射屏蔽7.電極LHT 型由于體積小,因此采用單個(gè)壁爐加熱器加熱。內(nèi)部溫度曲線優(yōu)于 ± 10 K。這種均勻性是通過精心設(shè)計(jì)和定位加熱元件實(shí)現(xiàn)的。 LHTG 采用石墨加熱元件和絕緣材料。如果需要 3000 °C 的最高溫度,則必須專門設(shè)計(jì)隔熱層厚度和石墨隔熱層,以承受超高溫度。安裝的功率也必須適合達(dá)到 3000 °C 的高加熱速率。加熱盒由水冷容器包圍。加熱爐配有所有必要的法蘭、熱電偶、電氣連接和高溫計(jì)。為了安全起見,容器為雙壁水冷式。電氣連接和電纜也是水冷卻的。 軟件操作可選擇手動(dòng)或自動(dòng)控制。對于手動(dòng)版本,所有閥門和泵都通過用戶面板上的簡單按鈕進(jìn)行操作,并使用轉(zhuǎn)子流量計(jì)調(diào)節(jié)氣體流量。自動(dòng)軟件則通過觸摸屏界面進(jìn)行操作。質(zhì)量流量控制器用于調(diào)節(jié)氣體流量。手動(dòng)和自動(dòng)操作均可進(jìn)行數(shù)據(jù)記錄。

          技術(shù)參數(shù):

          LHTG 100-200/22-1G

          保溫材料石墨
          體積(L)1.5
          真空的最高溫度(°C)2200
          氣氛時(shí)的最高溫度(°C)2200


          尺寸: 外部 高 x 寬 x 深 (mm)1800 x 1900 x 1000
          重量(kg)780
          可用空間
          ? x H, usable space without retort (mm)100 x 200
          ? x H, usable space with retort (mm)90 x 200
          熱性能參數(shù)
          ΔT, 從500-2200攝氏度 (根據(jù)DIN 17052)± 10
          最大升溫速率(k/min)10
          冷卻時(shí)間(H)4
          電氣參數(shù)
          功率 (kW)22
          電壓(V)400 (3P)
          電流(a)3 x 55
          保險(xiǎn)絲(A)3 x 63
          真空(選項(xiàng))
          泄漏率(清潔、冷態(tài)、空爐膛)(mbar l/s)< 5x10-3
          真空度,取決于真空泵粗或細(xì)真空
          冷卻水需求
          流量 (l/min)20
          冷卻水最高溫度(°C)23
          工藝氣氛
          氮?dú)饣驓鍤?,其他氣體請聯(lián)系廠家(L/H)50-500
          控制器
          手動(dòng)操作TP1200 touch panel
          自動(dòng)操作TP1900 touch panel, Siemens S7-1500 PLC

          保留技術(shù)變更和出錯(cuò)的權(quán)利

           




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