高速版無掩膜光刻機（Speed系列）是一款針對小批量生產制造需求而設計的光刻設備。

特征尺寸1μm：Speed系列無掩膜光刻機具備1μm的高精度特征尺寸，滿足了高精度圖案加工的需求，適用于各類精細電子元器件的生產。

8英寸光刻面積：設備支持8英寸（200mm）的光刻面積，適用于多種尺寸的晶圓和基板，具有較高的通用性。

高速掃描光刻：采用高速空間光調制器和高功率紫外激光器，實現高速掃描光刻，大幅提高生產效率。

無掩膜光刻技術：摒棄傳統(tǒng)掩膜版，直接通過計算機生成的光束進行光刻，節(jié)省了掩膜版制作時間和成本，提高了生產靈活性。

高效生產：Speed系列無掩膜光刻機具備高速光刻能力，適用于小批量、多品種的生產模式，大大縮短了生產周期，提高了生產效率。

靈活性強：無掩膜光刻技術使得設備能夠快速更換產品圖案，滿足多樣化生產需求，降低了生產成本。

節(jié)省成本：無需制作掩膜版，降低了生產過程中的材料成本和設備投資。

易于操作：Speed系列無掩膜光刻機采用人性化的操作界面，簡化了操作流程，降低了操作難度。

環(huán)保節(jié)能：高速光刻技術減少了能耗，無掩膜光刻技術降低了廢棄物產生，符合綠色環(huán)保的生產理念。

廣泛應用：Speed系列無掩膜光刻機適用于半導體、MEMS、生物芯片、光學器件等領域，為相關產業(yè)提供了高效、高質量的生產解決方案。

高速版無掩膜光刻機以其性能特點，為小批量生產制造提供了高效、靈活、低成本的優(yōu)質選擇，滿足了市場對高效率、高質量生產的需求。