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          實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)

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          實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)

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                 江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以高檔專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。2020年8月,江蘇雷博科儀通過(guò)資源整合,將雷博科儀中發(fā)展起來(lái)的的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)分拆出來(lái)成立了江蘇雷博微電子設(shè)備有限公司。兩家公司使用同一品牌 ,獨(dú)立經(jīng)營(yíng)不同系列產(chǎn)品。公司主營(yíng)高檔實(shí)驗(yàn)室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù)力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實(shí)力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實(shí)現(xiàn),在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場(chǎng)地位。公司生產(chǎn)的高精度高可靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國(guó)內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制化服務(wù)的供應(yīng)商。
                 公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;LEBO science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨(dú)立柜式機(jī)臺(tái)及工業(yè)全自動(dòng)機(jī)臺(tái)。
                 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能、有機(jī)光電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技術(shù)可靠、高性價(jià)比、定制化服務(wù)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。 

                 公司目前團(tuán)隊(duì)人數(shù)80多人,業(yè)績(jī)和規(guī)模處于快速擴(kuò)展期,2013年起年銷售額一直保持快速增長(zhǎng),目前正準(zhǔn)備二輪融資擴(kuò)產(chǎn)。公司生產(chǎn)廠房設(shè)有裝配潔凈車間及黃光試驗(yàn)區(qū),其中生產(chǎn)區(qū)域約1500平方米,辦公及倉(cāng)儲(chǔ)區(qū)域約1000平方米。

          勻膠機(jī),烤膠機(jī),涂膜機(jī),狹縫涂布機(jī),紫外清洗機(jī),電解雙噴儀

            實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)產(chǎn)品參數(shù) :
           
            1.曝光面積:160mm*160mm
           
            2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
           
            3.對(duì)準(zhǔn)精度:±1-1.5um
           
            4.光源強(qiáng)度:35mW/cm2
           
            5.UV光源:進(jìn)口LED模塊
           
            6.曝光中心波長(zhǎng):365nm
           
            7.光源壽命:1萬(wàn)小時(shí),光源平行性:≤2°
           
            8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
           
            9.照度不均勻性:≤3%
           
            10.曝光設(shè)定:定時(shí)
           
            11.可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
           
            12.間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙0-1200um
           
            13.可調(diào),可自動(dòng)分離和消除間隙
           
            14.樣片、掩模版相對(duì)移動(dòng)范圍:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
           
            15.掩模版找平方式:球氣浮自動(dòng)找平
           
            16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
           
            17.標(biāo)配承片臺(tái):2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
           
            18.標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
           
            19.對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng):光學(xué)+CCD,顯微倍數(shù):放大倍率:150倍-720倍可調(diào)
           
            20.雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-120mm

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