脈沖激光沉積鍍膜機(jī)PLD
- 公司名稱(chēng) 研啟科學(xué)儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/22 16:48:52
- 訪問(wèn)次數(shù) 73
聯(lián)系方式:余純博18772609610 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
純水機(jī),離心機(jī),旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,光譜儀,質(zhì)譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學(xué)工作站,,流式細(xì)胞儀,手套箱,磁控濺射
v 產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成
v 設(shè)備用途:是一種利用激光高能量脈沖輻射沖擊固體靶時(shí),激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質(zhì)通過(guò)等離子羽狀物到達(dá)已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移,及最后物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。PLD非常適合生長(zhǎng)多元氧化物的多層膜和異質(zhì)膜,輕松實(shí)現(xiàn)對(duì)化學(xué)成分較復(fù)雜的復(fù)合物材料進(jìn)行材料生長(zhǎng)。在生長(zhǎng)過(guò)程中還可以實(shí)現(xiàn)引入活性或惰性及混合氣等工藝氣體,以提高薄膜生長(zhǎng)品質(zhì)
v 基片尺寸:8inch(可向下兼容)
v 加熱溫度:1000℃ 加熱方式:輻射加熱
v 靶材:3*4”
v 真空度:5*10-7Pa
v 氣路系統(tǒng):氧氣、氮?dú)?、氬?/span>
v 模塊:PLD+進(jìn)樣室
v 激光窗口:配有閘板閥
v 光路系統(tǒng):激光掃描功能