1.產(chǎn)品概述：

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設(shè)備，VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導(dǎo)地位，實現(xiàn)當(dāng)下無缺陷的EUV掩模空白。

2.產(chǎn)品工藝：

光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來，Veeco已成功服務(wù)于光掩模市場，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當(dāng)EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應(yīng)用。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢：

經(jīng)過生產(chǎn)驗證的平臺

低的缺陷密度

優(yōu)異的均勻性和可重復(fù)性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中