ABN-450-S4 熱蒸發(fā)鍍膜
- 公司名稱 艾博納微納米科技(江蘇)有限責任公司
- 品牌 ABNER/艾博納
- 型號 ABN-450-S4
- 產(chǎn)地 江蘇省淮安市清江浦區(qū)清浦工業(yè)園枚皋路7號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/8/21 15:35:16
- 訪問次數(shù) 222
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應用領域 | 環(huán)保,化工,能源,印刷包裝,綜合 |
熱蒸發(fā)鍍膜的產(chǎn)品介紹:
1.真空系統(tǒng)
真空腔體由標準的304不銹鋼焊接而成,內(nèi)部形狀為長方體,其尺寸為600mm*600mm*700mm,電解拋光處理,減少內(nèi)部材料放氣現(xiàn)象。真空腔體上安裝有電極,基片系統(tǒng),真空系統(tǒng),氣路系統(tǒng)等部件;真空腔體配備兩個可以打開的門,前門為移門,通過與直線導軌,滑塊等裝置連接,可使前門左右開啟與關閉,后期也可以連接手套箱,在手套箱內(nèi)部操作前門開關,確保整個工作環(huán)境處于氮氣或惰性氣體氛圍中;后門旋轉(zhuǎn)門,通過旋轉(zhuǎn)軸實現(xiàn)后門的開關,開啟后腔體內(nèi)部暴露在空氣中,主要的目的為維護檢修,并配一個長方形觀察窗,配合腔體外部照明燈,方便觀察腔體內(nèi)部狀況。腔體側(cè)面裝有抽氣主管道,分子泵,插板閥,真空計,充氣閥,角閥等真空配件,在腔體潔凈,無污染的情況下,極限真空5*10-5pa,四十分鐘可達到大氣至5*10-4pa,系統(tǒng)停泵關機12小時后,真空度≤5Pa。該系統(tǒng)可以在不停分子泵的前提下,對腔體內(nèi)部材料添加、更換,也可以取放基片。
2.樣品系統(tǒng)
該設備的樣品架采用嵌入式結(jié)構(gòu),可搭載一片210mm*210mm基片,向下兼容,也可以搭載多片定制數(shù)量小基片;基片帶冷卻系統(tǒng);掩模版到基片距離小于0.1mm。
樣品架通過旋轉(zhuǎn)軸,磁流體,聯(lián)軸器,電機等裝置連接,從而可實現(xiàn)0~30轉(zhuǎn)/分鐘。配備1套基片擋板系統(tǒng),可以根據(jù)實際工作需求開啟與關閉。
3.沉積系統(tǒng)
該系統(tǒng)配備4組蒸發(fā)源,可對金屬,有機,無機物等材料進行蒸鍍,每組蒸發(fā)源均配備冷卻系統(tǒng),4組蒸發(fā)源按照R-D-matin-ME系列舟蒸發(fā)源設計;源和源之間有隔板,防止交叉污染及隔絕一定溫度輻射。
各個源均可通過繼電器切換與一臺可編程直流電源連接,電源設定為恒流模式,調(diào)節(jié)電流的大小來對蒸發(fā)源上的負載進行加熱,(TDKGEN8-1801.5KW可編程直流電源,升溫溫度1500℃,精度0.1A)從而使得負載上的材料達到一定溫度后發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象。通過膜厚儀上的數(shù)據(jù),可實時反饋出材料蒸發(fā)的速率(采用1臺InficonSQC-3102通道膜厚儀,厚度和速率分辨率±0.015?,速率顯示0.01?/s,可同時顯示2個膜厚探頭的讀數(shù)),沉積厚度等信息。也可以通過編輯膜厚儀程序,到達自動蒸鍍的效果。
4.控制系統(tǒng)
熱蒸發(fā)鍍膜采用工控機控制系統(tǒng),可實現(xiàn)自動一鍵式抽真空,也可以在手動模式下,控制機械泵、角閥、插板閥、分子泵的開啟和停止,軟件中含有各個電氣設備的軟件互鎖和狀態(tài)反饋,確保不會因誤操作導致設備的損壞,還可以在手動模式下,控制基片旋轉(zhuǎn),擋板開關,電極的切換等一系列操作。速率控制模式可以設定蒸發(fā)材料的速率值,與膜厚儀中探頭檢測的實際值比較,通過速率控制PID模塊調(diào)節(jié)加熱電源的輸出;通過膜厚儀與工控機串口通訊,將蒸發(fā)速率、蒸鍍膜厚和輸出功率一同在軟件中實時顯示,方便操作人員監(jiān)測實驗過程;登陸軟件需要用戶名和密碼,不同的用戶名對應不同的操作權(quán)限,確保操作人員不會誤操作到設備的參數(shù)設置