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          Nikon S207D 掃描式光刻機

          具體成交價以合同協(xié)議為準
          • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
          • 品牌 Nikon/日本尼康
          • 型號 Nikon S207D
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
          • 更新時間 2024/9/7 10:06:14
          • 訪問次數(shù) 501

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          深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務的高新技術(shù)企業(yè)。

          致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務。

          公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

           

           

           

           

           

           

           

           

          冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

          一、產(chǎn)品概述:

          Nikon S207D 掃描式光刻機是一款專為半導體制造設計的高性能設備,支持 200mm 晶圓的生產(chǎn)。該機型采用先進的掃描光刻技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移,適用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速的曝光速度和穩(wěn)定的性能,S207D 非常適合大批量生產(chǎn),同時用戶友好的操作界面和自動化功能使得操作簡單高效。這些特點使得 Nikon S207D 成為現(xiàn)代半導體制造過程中的重要工具,滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

          二、設備用途/原理:

          該設備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。工作過程中,光源發(fā)出特定波長的光線,通過高分辨率光學系統(tǒng),精準地掃描掩模并將圖案投影到晶圓上。曝光后,光刻膠的化學性質(zhì)發(fā)生變化,接著進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,形成所需的圖案。隨后,利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,Nikon S207D 能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉(zhuǎn)移,滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準需求。

          三、主要技術(shù)指標

          分辨率

          0.11µm

          N.A.

          0.82

          曝光光源

          248nm

          倍率

          4:1

          大曝光現(xiàn)場

          26mm*33mm

          對準精度

          20nm

          四、設備特點

          Nikon S207D掃描式光刻機

          光源波長248nm

          分辨率優(yōu)于0.11µm

          主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線

          廣泛應用于化合物半導體、MEMSLED







          化工儀器網(wǎng)

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