賀利氏Clevios導(dǎo)電聚合物FET 賀利氏電子化學(xué)材料深耕與導(dǎo)電聚合物領(lǐng)域。如今，我們繼續(xù)高質(zhì)量和高可靠性的產(chǎn)品與服務(wù)。Clevios™ 可幫助延長產(chǎn)品使用壽命，同時不會影響尺寸或?qū)嵱眯浴?/p>

Clevios™ 的突出特點

Clevios™ PEDOT/PSS 在導(dǎo)電化學(xué)領(lǐng)域有多重應(yīng)用。新型柔性顯示器、高性能電解電容器、抗靜電和導(dǎo)電保護(hù)層和屏蔽層以及印刷電子產(chǎn)品只是 Clevios™ 應(yīng)用領(lǐng)域的一小部分。

高導(dǎo)電性（高達(dá) 1,000      S/cm）

優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性

透明（在 d =      100nm 時透明度達(dá) 90）

聚合物分散體或原位聚合易于使用

操作安全

為特定應(yīng)用定制產(chǎn)品系列

高熱/紫外線穩(wěn)定性和可靠性

可根據(jù)工業(yè)需求進(jìn)行擴(kuò)展

用途廣泛，形式多樣

對于原位聚合，該產(chǎn)品可以單體形式提供，也可以水基分散體或與溶劑和添加劑混合的即用型配方形式提供。該產(chǎn)品系列包括單體、催化劑（氧化劑）、聚合物和專門為滿足您的要求而設(shè)計的配方。

CleviosT™導(dǎo)電聚合物的干燥

Clevios™導(dǎo)電聚合物涂層需要在加熱環(huán)境下干燥。干燥之后，Clevios™導(dǎo)電聚合物涂層便可投入使用，無需再進(jìn)行退火處

理或后處理。

干燥工藝可在普通的實驗室熱風(fēng)對流式加熱爐中進(jìn)行。標(biāo)準(zhǔn)干燥條件:穩(wěn)定的PET薄膜基材，溫度120°C到130℃，干燥時間3

到15分鐘。根據(jù)涂層厚度和Clevios™產(chǎn)品種類不同，干燥時間還可以大幅縮短。盡管涂層在80°C左右的溫度下便能有效干

燥，但所需干燥時間會更長。

Clevios™導(dǎo)電聚合物涂層高效的干燥方式是使用紅外線。賀利氏特種光源可根據(jù)干燥要求提供的定制化解決方案。

>賀利氏紅外線技術(shù)碳波紅外線輻射器

在OLED和OPV等應(yīng)用中，CleviosT™導(dǎo)電聚合物通過旋涂的方式進(jìn)行成膜，涂層在130°C到200C的加熱板上只需5到15分鐘

便能被烘干。Clevios™PEDOT:PSS涂層具有一定的吸濕性，因此在后續(xù)的涂層完成沉積之前，在沒有濕氣的環(huán)境下對涂

層進(jìn)行處理，或在進(jìn)一步加工之前使用加熱板對涂層進(jìn)行短時間的后續(xù)烘干處理。

電導(dǎo)率和表面電阻率

測量Clevios™導(dǎo)電聚合物電導(dǎo)率的方法之一是將該材料通過旋涂或刮涂的方式沉積到光滑的基材表面，形成一道薄薄的均勻涂

層。涂層厚度應(yīng)當(dāng)在50-500nm之間。

涂層厚度的測量方式:可以使用薄刀片將涂層劃開，再采用機(jī)械或光學(xué)輪廓儀上的探針掃描整個刮痕面，再通過四點探針測試

儀測量涂層的表面電阻率。

此外，表面電阻率還可以通過使用萬用表測量平行觸點之間的阻值來確定。觸點可以通過銀膠或使用蔭罩蒸發(fā)金屬的方式沉積

到Clevios™涂層表面。在簡單的兩點測量過程中，引線和觸點的電阻率應(yīng)當(dāng)忽略不計。

測量CLEVIOST™導(dǎo)電聚合物的電導(dǎo)率和表面電阻率

用于OLED的高方阻Clevios™P系列(CleviosTM P AI 4083和CleviosT™PCH 8000)的電阻率必須在干燥的環(huán)境下測量，即在

真空腔室或在充滿氮氣或氬氣的手套箱中，以避免受到濕氣的影響。對Clevios™PCH 8000進(jìn)行測量時，金屬接觸點之間的

寬度應(yīng)當(dāng)小于長度(b<<a)，否則電阻將變得太大而無法準(zhǔn)確測量。

在與Clevios™涂層直接接觸的過程中，操作人員應(yīng)避免使用尖銳的探針，以防止刺穿、損壞Clevios涂層;可采用扁平或圓形的

探針頭，例如Loresta AX設(shè)備的ESP探針。

應(yīng)用

Clevios™ PEDOT:PSS 具有出色的特性，應(yīng)用廣泛： 

聚合物電容

智能織物和可穿戴設(shè)備

顯示技術(shù)

印刷電子

有機(jī)太陽能電池

防靜電