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          產(chǎn)品展廳

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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)> VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

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          VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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          北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)解決方案集成者:
          鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案,包括:高壓科學(xué)材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

          我們的服務(wù)理念是:讓科研更高效、便捷。

           

           

           

           

           

           

           

           

          實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,材料科學(xué),質(zhì)譜儀,電化學(xué),電池,催化


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          產(chǎn)品簡(jiǎn)介: VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、 導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。 VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜, 兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 與同類設(shè)備相比, 其不僅應(yīng)用廣泛, 且具有體積小便于操 作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備, 特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。




          產(chǎn)品名稱

          VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀

          產(chǎn)品型號(hào)

          VTC-600-3HD

          安裝條件

          本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


          1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)


          2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


          3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套


          接頭)及減壓閥





          4、工作臺(tái): 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上


          5、通風(fēng)裝置:需要

          主要特點(diǎn)

          1 、配置三個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo) 電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換)。


          2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。


          3、體積小,操作簡(jiǎn)便。


          4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。


          5、可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

          技術(shù)參數(shù)

          1、電源電壓: 220V    50Hz


          2、總功率:<2.5KW


          3、極限真空度: < E-6mbar  (配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到img2E-5mbar


          4、工作溫度: RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)


          5、靶槍數(shù)量: 3 個(gè)


          6、靶槍冷卻方式:水冷


          7 、靶材尺寸: ?2″ ,厚度 0.1mm-5mm  (因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)


          8、直流濺射功率: 500W (可選)


          9、射頻濺射功率: 300W/500W (可選)


          10、載樣臺(tái): ?140mm


          11、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速: 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào)


          12、保護(hù)氣體: Ar 、N2 等惰性氣體


          13、進(jìn)氣氣路: 質(zhì)量流量計(jì)控制 2 路進(jìn)氣, 1 個(gè)流量為 100 SCCM ,1 個(gè)流量為 200 SCCM

          產(chǎn)品規(guī)格

          主機(jī)尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,整機(jī)尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm;重量: 160kg

          標(biāo)準(zhǔn)配件

          1

          直流電源控制系統(tǒng)

          2 





          2

          射頻電源控制系統(tǒng)

          1 

          3

          膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)

          1 

          4

          分子泵(德國(guó)進(jìn)口)

          1 臺(tái)

          5

          冷水機(jī)

          1 臺(tái)

          6

          冷卻水管(?6mm

          4 

          可選配件

          金、銦、銀、鉑等各種靶材




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