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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)>IQ Aligner NT Dymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

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          IQ Aligner NT Dymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          產(chǎn)品標(biāo)簽

          光刻機(jī)光刻掩膜掩模曝光

          聯(lián)系方式:岱美儀器查看聯(lián)系方式

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          岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡(jiǎn)稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的高科技設(shè)備分銷商,主要為數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、半導(dǎo)體、光通訊、高校及研發(fā)中心提供各類測(cè)量設(shè)備、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長(zhǎng)期合作的關(guān)系。自1989年創(chuàng)立至今,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國(guó)香港,中國(guó)大陸(上海、東莞、北京),中國(guó)臺(tái)灣,泰國(guó),菲律賓,馬來(lái)西亞,越南及新加坡等地區(qū)。


          岱美在中國(guó)大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

          晶圓鍵合機(jī)、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)、硅片清洗機(jī)、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測(cè)、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x、薄膜厚度檢測(cè)儀、主動(dòng)及被動(dòng)式防震臺(tái)系統(tǒng)、應(yīng)力檢測(cè)儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


          岱美重要合作伙伴包括有:

          Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

          n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


          如有需要,請(qǐng)聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_(kāi)始與您之間的合作,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長(zhǎng)期發(fā)展的目標(biāo)。




          膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機(jī),EVG光刻機(jī),HERZ隔震臺(tái),Microsense電容式位移傳感器

          IQ Aligner NT自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)是具有高度自動(dòng)化程度的非接觸式接近光刻平臺(tái),可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至蕞低并提高掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求。除了多種對(duì)準(zhǔn)功能外,該系統(tǒng)還通過(guò)專門配置進(jìn)行了大量的的安裝和現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,可自動(dòng)支撐和處理翹曲或變薄的晶圓。標(biāo)準(zhǔn)的頂面或底面對(duì)準(zhǔn)與集成的IR對(duì)準(zhǔn)功能之間的混合匹配操作進(jìn)一步拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域,尤其是在與工程或粘合(鍵合)基板對(duì)準(zhǔn)時(shí)。該系統(tǒng)還通過(guò)快速響應(yīng)的溫度控制工具集支持晶圓片對(duì)準(zhǔn)跳動(dòng)控制。與EVG的上一代IQ Aligner相比,高功率光學(xué)器件的照明強(qiáng)度提高了3倍,使其成為曝光厚抗蝕劑和與處理凸點(diǎn),支柱和其他高形貌特征相關(guān)的其他膜的理想選擇。


          IQ Aligner 性能特征

          • ■ 零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm規(guī)格

          • ■ 全透明場(chǎng)掩模移動(dòng)(FCMM),實(shí)現(xiàn)靈活的圖案定位和暗場(chǎng)掩模對(duì)準(zhǔn)兼容性

          • ■ 無(wú)以倫比的吞吐量(第一次印刷/對(duì)準(zhǔn)) > 200 wph / 160 wph

          • ■ 頂/底部對(duì)準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 250 nm / ± 500 nm

          • ■ 接近過(guò)程100%無(wú)觸點(diǎn)

          • ■ 暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)能力/ 全場(chǎng)清除掩模(FCMM)

          • ■ 精準(zhǔn)的跳動(dòng)補(bǔ)償,實(shí)現(xiàn)佳的重疊對(duì)準(zhǔn)

          • ■ 智能過(guò)程控制和性能分析框架軟件平臺(tái)


          技術(shù)數(shù)據(jù)

          楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)-軟件控制;非接觸式

          先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:自動(dòng)對(duì)準(zhǔn);大間隙對(duì)準(zhǔn);跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn);動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)

          工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

          晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米

          對(duì)準(zhǔn)方式:

          • 上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.25 µm

          • 底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 µm

          • 紅外校準(zhǔn):≤±2,0 µm /具體取決于基材

          曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

          曝光選項(xiàng):間隔曝光/整片曝光

          系統(tǒng)控制:

          • 操作系統(tǒng):Windows

          • 文件共享和備份解決方案/無(wú)限制的配方和參數(shù)

          • 多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

          • 實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除


          應(yīng)用

          IQ Aligner NT非常適合各種高級(jí)封裝類型,包括晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝(WLCSP),扇出晶圓級(jí)封裝(FOWLP),3D-IC /直通硅通孔(TSV),2.5D中介層和倒裝芯片。




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