GVC-1000 射頻磁控濺射鍍膜儀
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 GVC-1000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/11/7 15:07:52
- 訪問次數(shù) 739
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀(全自動離子濺射儀)主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜,儀器操作簡單方便,是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材:金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等!
描述
1、離子濺射儀工作原理:磁控濺射;
2、可選靶材:金,鉑,金鈀合金,鉛,銀,銅,鉻,銻等;
3、真空室:φ128×100高硅硼玻璃;
4、全自動操作,簡單易用,非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等;
濺射電流自動調(diào)整—設(shè)定濺射電流后,系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)真空度,從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流,調(diào)整時間<5s,波動范圍<±5%;
5、無需按“實驗”鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進(jìn)氣閥”:
(1)濺射時間自動記憶——同類樣品一次設(shè)定即可;
(2)參數(shù)改變自動調(diào)整——濺射過程中可以隨時調(diào)整濺射電流和濺射時長,系統(tǒng)自動計算疊加,無需終止濺射過程;
(3)工作完成自動放氣;
(4)樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成;
(5)濺射過程可以利用曲線顯示,清晰直觀;
(6)極限真空:小于1Pa;
6、軟硬件互鎖,防誤操作,安全可靠:
(1)真空度高于100Pa,啟動真空保護(hù),無法濺射;
(2)濺射電流高于50mA,停止濺射過程;
(3)真空泵工作時,系統(tǒng)無法進(jìn)行放氣操作;
7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻,導(dǎo)電性良好。