F20 反射膜厚儀
- 公司名稱 深圳市錫成科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) F20
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/8/7 14:45:17
- 訪問(wèn)次數(shù) 498
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臺(tái)階儀，光學(xué)輪廓儀，電化學(xué)工作站，納米壓痕儀，力電聯(lián)測(cè)材料試驗(yàn)機(jī)，介電溫譜測(cè)量系統(tǒng)，電阻測(cè)試儀，原子力顯微鏡，光學(xué)顯微鏡
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
|---|
反射膜厚儀可在幾秒鐘內(nèi)完成高精度的薄膜厚度測(cè)量，實(shí)現(xiàn)便捷高效的無(wú)損測(cè)量。其基本原理是：光源發(fā)出的光經(jīng)光纖導(dǎo)出后照射在樣品表面，樣品表面與基底反射的光產(chǎn)生干涉，通過(guò)其相位變化與波程差可測(cè)量薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)。相比于其他的薄膜厚度測(cè)量?jī)x器，具有經(jīng)濟(jì)適用，構(gòu)造及維護(hù)簡(jiǎn)單，使用方便等優(yōu)點(diǎn)。
F20反射膜厚儀單點(diǎn)測(cè)量系統(tǒng)
樣品要求：透明或半透明薄膜
薄膜厚度：1nm~3mm
基底（厚度測(cè)量）：表面光滑，可反射光線
基底（光學(xué)常數(shù)測(cè)量）：平整，鏡面反射
可測(cè)量多層薄膜樣品
膜厚、折射率和消光系數(shù)
型號(hào) | 厚度范圍 | 波長(zhǎng)范圍 |
F20 | 15nm - 70µm | 380-1050nm |
F20-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
F20-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
F20-UV | 1nm - 40µm | 190-1100nm |
F20-UVX | 1nm - 250µm | 190-1700nm |
F20-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
F3-sX | 10µm- 3mm | 960-1580nm |
設(shè)定掃描圖案，自動(dòng)測(cè)量，速度2point/s
內(nèi)置多種圖案，用戶可自建掃描圖案
全自動(dòng)XY工作臺(tái)
型號(hào) | 厚度范圍 | 波長(zhǎng)范圍 |
F50 | 20nm - 70µm | 380-1050nm |
F50-UV | 5nm - 40µm | 190-1100nm |
F50-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
F50-EXR | 20nm - 250µm | 380-1700nm |
F50-UVX | 5nm - 250µm | 190-1700nm |
F50-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
F50-s980 | 4µm - 1mm | 960-1000nm |
F50-s1310 | 7µm - 2mm | 1280-1340nm |
F50-s1550 | 10µm - 3mm | 1520-1580nm |
F30在線厚度測(cè)量系統(tǒng)
測(cè)量速度快，可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜沉積生長(zhǎng)情況
測(cè)量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性
精度＜±1%
非接觸式測(cè)量，可以在沉積室進(jìn)行測(cè)量
型號(hào) | 厚度范圍 | 波長(zhǎng)范圍 |
F30 | 15nm - 70µm | 380-1050nm |
F30-UV | 3nm - 40µm | 190-1100nm |
F30-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
F30-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
F30-UVX | 3nm - 250µm | 190-1700nm |
F30-XT | 2µm - 450µm | 1440-1690nm |
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