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          產(chǎn)品展廳

          產(chǎn)品求購(gòu)企業(yè)資訊會(huì)展

          發(fā)布詢(xún)價(jià)單
          螞蟻源科學(xué)儀器(北京)有限公司

          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>粉碎/研磨設(shè)備>研磨儀>customized 離子研磨系統(tǒng)

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          customized 離子研磨系統(tǒng)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱(chēng) 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
          • 品牌 Hitachi/日立
          • 型號(hào) customized
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
          • 更新時(shí)間 2024/9/6 10:48:40
          • 訪問(wèn)次數(shù) 636
          產(chǎn)品標(biāo)簽

          離子研磨系統(tǒng)研磨機(jī)

          聯(lián)系方式:謝澤雨查看聯(lián)系方式

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          深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

          致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

          公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

           

           

           

           

           

           

           

           

          冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

          產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 出料粒度 0.01-0.5mm
          價(jià)格區(qū)間 面議 樣品適用 多種樣品
          儀器種類(lèi) 研磨機(jī) 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,汽車(chē),電氣,綜合

          一、產(chǎn)品概述:

          離子研磨系統(tǒng)是一種用于樣品表面精密處理的設(shè)備,利用離子束對(duì)材料表面進(jìn)行刻蝕和拋光。該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工程及顯微鏡樣品制備等領(lǐng)域,能夠?qū)崿F(xiàn)高質(zhì)量的表面平整度和光滑度。

          二、設(shè)備用途/原理

          ·設(shè)備用途

          離子研磨系統(tǒng)主要用于制備電子顯微鏡樣品、改善材料表面的特性以及去除表面缺陷。工程師和研究人員可以利用該系統(tǒng)進(jìn)行材料的表面分析和處理,以確保樣品在后續(xù)測(cè)試中的可靠性和準(zhǔn)確性。

          ·工作原理

          離子研磨系統(tǒng)通過(guò)產(chǎn)生高能離子束并將其聚焦到樣品表面,利用離子束的轟擊作用去除表面材料。系統(tǒng)可以調(diào)節(jié)離子束的能量、角度和處理時(shí)間,以實(shí)現(xiàn)不同深度和形狀的表面處理。通過(guò)精確控制這些參數(shù),用戶(hù)可以獲得所需的表面光滑度和特性,確保樣品在顯微鏡觀察或其他測(cè)試中的高質(zhì)量表現(xiàn)。

          三、主要技術(shù)指標(biāo):

          1. 為了對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察、分析,必須讓樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)顯露出來(lái),日立離子研磨裝置使用大面積低能量的Ar離子束,加工出無(wú)應(yīng)力損傷的截面,為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、 異物解析、層厚測(cè)量等提供有效的處理方法

          2. 制成的低損傷的截面便于表層以下內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析

          3. 適用樣品:電子元件如IC芯片、PCB、LED等(多層、裂

          4. 痕、孔洞分析)、金屬(EBSD晶體結(jié)構(gòu)、EDS元素分析、鍍 層)、高分子材料、紙、陶瓷、玻璃、粉末等

          5. 可移動(dòng)的樣品座可精確定位、實(shí)現(xiàn)對(duì)特定位置的研磨

          6. 大樣品: 20 mm× 長(zhǎng)12 mm× 7 mm

          7. 聯(lián)用樣品臺(tái)在機(jī)械研磨、離子研磨、SEM觀察(Hitachi機(jī)型)之間不用更換樣品臺(tái)




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