激光直寫技術(shù)
- 公司名稱 蘇州華維納納米科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/25 16:43:50
- 訪問次數(shù) 1094
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公司簡(jiǎn)介:
蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業(yè)園區(qū)創(chuàng)業(yè)人才項(xiàng)目"的支持下，于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司，公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成，公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。公司曾先后獲得國(guó)家科技部（國(guó)家重大大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng))和姑蘇、江蘇省雙創(chuàng)人才、以及蘇州x-nano大科學(xué)裝置等項(xiàng)目支持，并于2012年6月 完成首輪風(fēng)險(xiǎn)融資，并成功研發(fā)出擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的三大系列新型納米激光光刻系統(tǒng)，2015年被認(rèn)定為高新技術(shù)企業(yè)。
公司近年來，不斷加大研發(fā)力度，已經(jīng)定型了LDW-P 和LDW-L兩大系列新型激光直寫設(shè)備，實(shí)現(xiàn)了激光直寫設(shè)備的更新?lián)Q代。該新型激光直寫采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。
無(wú)掩模納米光刻系統(tǒng)，激光直寫設(shè)備
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 | 激光波長(zhǎng) | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 刻寫范圍 | 50mm×50mm至100mm×100mm（可選） |
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司，公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成，公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。
激光直寫技術(shù)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。
新一代激光直寫光刻設(shè)備特點(diǎn)
具有核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國(guó)產(chǎn)激光直寫設(shè)備
具有超越衍射極限的加工能力
激光直寫技術(shù)可適用于多種受體材料
本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設(shè)備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務(wù)。
部分加工樣品如下圖
采購(gòu)中心
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