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CYSQ-80-III 恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置
- 公司名稱 杭州川一實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
- 品牌 川一儀器
- 型號(hào) CYSQ-80-III
- 產(chǎn)地 杭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/11/19 17:15:06
- 訪問次數(shù) 1062
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價(jià)格區(qū)間 | 5千-1萬 | 控溫范圍 | 室溫-60℃ |
---|---|---|---|
容量規(guī)格 | 80升 | 溫度均勻性 | 0.3℃ |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,制藥,綜合 |
恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置?∣主要特征:
1.CO2氣體濃度檢測(cè)采用*的IR紅外傳感器,計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí),傳感器無機(jī)械磨損,響應(yīng)速度快,可靠性能高,穩(wěn)定性能好,且使用壽命長(zhǎng)?! ?/span>
2. CO2氣體濃度檢測(cè)采用進(jìn)口電化學(xué)氧氣傳感器,具有線性度好,檢測(cè)準(zhǔn)確等特點(diǎn),壽命長(zhǎng),能充分滿足用戶需要?! ?/span>
3.溫度檢測(cè)全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器,性能穩(wěn)定,線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制,由五個(gè)面的套溫和一個(gè)面的門溫合成工作室溫度,準(zhǔn)確度高。
4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性?! ?/span>
5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性?!?/span>
6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。
7.箱門打開時(shí),電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染?! ?/span>
8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響?! ?/span>
9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確?! ?/span>
10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過預(yù)置溫度時(shí),可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過預(yù)置值。
11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔?! ?/span>
12.滅菌系統(tǒng): 紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短。
恒溫殺菌三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)裝置?∣技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | CHSQ-50-III | CHSQ-80-III | CHSQ-100-III | CHSQ-160-III | CHSQ-200-III |
顯示屏 | 5.0寸觸摸屏 | ||||
公稱容積(L) | 50 | 80 | 100 | 160 | 200 |
溫度控制范圍(℃) | Rt+3-60℃ | ||||
溫度波動(dòng)度(℃) | ±0.2(@37) | ||||
溫度均勻性(℃) | ±0.3(@37) | ||||
C02濃度控制范圍(VOL%) | 0-20 | ||||
C02濃度控制誤差(%) | ±0.1 | ||||
02濃度控制范圍(VOL%) | 1-95 | ||||
02濃度控制誤差(%) | ±0.3 | ||||
環(huán)境溫度(℃) | 5-30,建議25±2 | ||||
功率 | 400 | 400 | 450 | 550 | 650 |
工作室尺寸(mm)長(zhǎng)*寬*高) | 340*340*450 | 400*400*500 | 410*410*600 | 500*500*650 | 500*530*750 |
外形尺寸(mm)長(zhǎng)*寬*高) | 480*450*740 | 540*520*790 | 550*530*890 | 640*620*940 | 640*650*1040 |
定時(shí)范圍(h) | 0-999或連續(xù) | ||||
電源電壓(V) | AC220±22V 50±1HZ | ||||
隔板數(shù) | 2塊 | ||||
CO2控制方式 | IR紅外傳感器 | ||||
O2控制方式 | 電化學(xué)傳感器 | ||||
相對(duì)溫度 | ≥90%(RH%),該參數(shù)顯示不控制 | ||||
滅菌方式 | 紫外滅菌 |
三氣培養(yǎng)箱的耗氣量到底有多少呢?平常,儀器的介紹,很少涉及到這個(gè)問題,有的會(huì)主動(dòng)給您介紹,有的,您不問,不會(huì)給您提及這個(gè)問題,今天,我們來聊一聊。
市面上的三氣培養(yǎng)箱容積,綜合起來,型號(hào)大致30L、50L、 100L、200L、80L、160L、240L、(應(yīng)該來講,不說涵蓋了全部,90%的還是涵蓋了)。
所謂的耗氣,通常主要是指:
低氧實(shí)驗(yàn)下,降氧過程中 + 維持低氧環(huán)境下,N2的消耗;
CO2的消耗相對(duì)于氮?dú)夂脱鯕?,就可以忽略了?0升培養(yǎng)箱一般一罐CO2至少能用3個(gè)月。
所采用的鋼瓶,不到一人高,基本容積為40L,氣體如果是滿罐氣體,大約12~13MPa,折合來,就是4800L~5200L。
例如:50L儀器,低氧實(shí)驗(yàn),
加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為10.4%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為5.2%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為2.6%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為1.3%,
所以從空氣濃度降氧,大致5%氧氣濃度時(shí)需2倍箱體容積N2,1%氧氣濃度時(shí)需4倍箱體容積N2。
耗氣是克服箱體的正常泄露,維持低氧環(huán)境所需消耗的氮?dú)猓话?天需要的氮?dú)饬繛檫M(jìn)氣量的兩倍。耗氣量的消耗,還與儀器的氣密性、鋼瓶的氣密性、減壓閥的氣密性有關(guān)。
我們按1天開關(guān)兩次門計(jì)算,降氧,N2耗氣量大致消耗量如下:
1天耗氣量 = 一次進(jìn)氣量×2+維持氣量
三氣培養(yǎng)箱的耗氣量到底有多少呢?平常,儀器的介紹,很少涉及到這個(gè)問題,有的會(huì)主動(dòng)給您介紹,有的,您不問,不會(huì)給您提及這個(gè)問題,今天,我們來聊一聊。
市面上的三氣培養(yǎng)箱容積,綜合起來,型號(hào)大致30L、50L、 100L、200L、80L、160L、240L、(應(yīng)該來講,不說涵蓋了全部,90%的還是涵蓋了)。
所謂的耗氣,通常主要是指:
低氧實(shí)驗(yàn)下,降氧過程中 + 維持低氧環(huán)境下,N2的消耗;
CO2的消耗相對(duì)于氮?dú)夂脱鯕?,就可以忽略了?0升培養(yǎng)箱一般一罐CO2至少能用3個(gè)月。
所采用的鋼瓶,不到一人高,基本容積為40L,氣體如果是滿罐氣體,大約12~13MPa,折合來,就是4800L~5200L。
例如:50L儀器,低氧實(shí)驗(yàn),
加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為10.4%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為5.2%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為2.6%;
再加入50升N2,攪拌均勻后排出50L氣體,此時(shí)箱內(nèi)O2含量約為1.3%,
所以從空氣濃度降氧,大致5%氧氣濃度時(shí)需2倍箱體容積N2,1%氧氣濃度時(shí)需4倍箱體容積N2。
耗氣是克服箱體的正常泄露,維持低氧環(huán)境所需消耗的氮?dú)?,一?天需要的氮?dú)饬繛檫M(jìn)氣量的兩倍。耗氣量的消耗,還與儀器的氣密性、鋼瓶的氣密性、減壓閥的氣密性有關(guān)。
我們1天開關(guān)兩次門計(jì)算,降氧,N2耗氣量大致消耗量如下:
1天耗氣量 = 一次進(jìn)氣量×2+維持氣量
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