CP 平臺(tái)隔振地腳
- 公司名稱(chēng) 山東創(chuàng)譜光學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CP
- 產(chǎn)地 山東省濟(jì)南市槐蔭區(qū)德邁國(guó)際信息產(chǎn)業(yè)園12棟東戶 創(chuàng)譜儀器
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2022/8/11 15:37:19
- 訪問(wèn)次數(shù) 273
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創(chuàng)譜儀器主要生產(chǎn)經(jīng)營(yíng):探針臺(tái),光電測(cè)試系統(tǒng),光譜測(cè)量系統(tǒng),光譜儀器,科研級(jí)光源,光學(xué)積分球,光學(xué)隔振平臺(tái),精密位移臺(tái),光學(xué)調(diào)整架,光具座元器件等產(chǎn)品。
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1千-5千 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
平臺(tái)隔振地腳大多數(shù)光學(xué)實(shí)驗(yàn)或工業(yè)生產(chǎn)都對(duì)系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動(dòng)會(huì)導(dǎo)致儀器測(cè)量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性,嚴(yán)重干擾生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行,振動(dòng)來(lái)源主要分為來(lái)自系統(tǒng)之外的振動(dòng)和系統(tǒng)內(nèi)部的振動(dòng),地面固有振動(dòng),工作人員踩踏地板以及開(kāi)、關(guān)門(mén)或墻壁碰撞等通過(guò)地面?zhèn)鱽?lái)的振動(dòng)均屬系統(tǒng)之外的振動(dòng),這一類(lèi)振動(dòng)需通過(guò)光學(xué)平臺(tái)的隔振支架衰減;而來(lái)自系統(tǒng)內(nèi)部的振動(dòng)包括儀器振動(dòng)、氣流、冷卻水流等,則需依靠光學(xué)平臺(tái)的桌面阻尼來(lái)隔絕。
隨著光學(xué)加工設(shè)備和測(cè)量?jī)x器精度的不斷提高, 其對(duì)工作環(huán)境的振動(dòng)隔離提出了更加嚴(yán)苛的要求。例如,離子激光器泵浦噴流染料激光器時(shí),激光器的振動(dòng)要求達(dá)到了微米級(jí);由于可見(jiàn)光波長(zhǎng)約為0.5微米,即使振動(dòng)在次微米級(jí)別時(shí),以光的干涉為基礎(chǔ)的實(shí)驗(yàn)(如全息攝影) 也將無(wú)法進(jìn)行; LμmArray 公司的并行激光直寫(xiě)設(shè)備的直寫(xiě)頭振動(dòng)線位移不能超過(guò)15nm ;超精密機(jī)械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達(dá)到 0.1nm ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達(dá)到亞納米級(jí)。因此,對(duì)光學(xué)加工設(shè)備及光學(xué)測(cè)量?jī)x器進(jìn)行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動(dòng)正常進(jìn)行的必要條件。
同時(shí),對(duì)于大型精密光學(xué)儀器來(lái)說(shuō),其除了有近乎嚴(yán)苛的隔振要求外,儀器本身往往還具有較大的體積和質(zhì)量,這對(duì)作為隔振基礎(chǔ)的光學(xué)隔振平臺(tái)的承載能力和工作空間也提出了更進(jìn)一步的要求。因此,隔振性能好、承載能力強(qiáng)、工作空間大的大型或超大型精密光學(xué)隔振平臺(tái)具有了較大的市場(chǎng)需求。
平臺(tái)隔振地腳創(chuàng)譜儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的光學(xué)隔振平臺(tái)廣泛的應(yīng)用于精密科研光學(xué)試驗(yàn)、加工及測(cè)量中,是您理想的選擇。提供各種各樣隔振地腳,適用于光學(xué)平板系列,材質(zhì)為橡膠
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