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          EVG 7200 納米壓印 EVG7200 自動(dòng)化SmartNIL UV納米壓印光刻

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào) EVG 7200 納米壓印
          • 產(chǎn)地 奧地利
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2024/9/25 14:29:17
          • 訪問次數(shù) 1333

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          公司自成立以來就一直專注于半導(dǎo)體、微組裝和電子裝配等領(lǐng)域的設(shè)備集成和技術(shù)服務(wù);目前公司擁有一支在半導(dǎo)體制造、微組裝及電子裝配等領(lǐng)域經(jīng)驗(yàn)豐富的專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),專業(yè)服務(wù)于混合電路、光電模塊、MEMS、先進(jìn)封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導(dǎo)體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領(lǐng)域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設(shè)備,還能根據(jù)客戶的實(shí)際生產(chǎn)需求制訂可行的工藝技術(shù)方案。
          目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導(dǎo)體制造設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進(jìn)的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)服務(wù)打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

           

          半導(dǎo)體設(shè)備,微組裝設(shè)備,LTCC設(shè)備,化工檢測設(shè)備

          應(yīng)用領(lǐng)域 電子,航天,電氣

          EVG®7200   Automated SmartNIL® UV Nanoimprint Lithography S

          EVG®7200   自動(dòng)化SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)

           

          具有EVG專有的SmartNIL®技術(shù)的自動(dòng)全場UV納米壓印解決方案(大200毫米)

           

           

          技術(shù)數(shù)據(jù)

          EVG7200系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和EVG的材料專長來實(shí)現(xiàn)微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn)。該系統(tǒng)將SmartNIL的高級(jí)軟印和壓印功能帶到了更大的基板和更小的幾何形狀上,批量生產(chǎn)時(shí)的分辨率低至40 nm *。這帶來了更大的擁有成本(CoO)收益,并實(shí)現(xiàn)了納米壓印光刻技術(shù)的全部制造潛力。

          *分辨率取決于過程和模板

           

           

          特征

          體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

          專有的SmartNIL®技術(shù)和多次使用的聚合物印模技術(shù)

          集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

          盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)R&D模式

          可選的頂部對齊

          可選的迷你環(huán)境

          適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

          從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

          系統(tǒng)外殼,可實(shí)現(xiàn)過程穩(wěn)定性和可靠性

           

          技術(shù)數(shù)據(jù)

          晶圓直徑(基板尺寸)75至200毫米;

          解析度≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

          支持流程:SmartNIL®

          曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm²

          對準(zhǔn):可選的頂部對齊

          自動(dòng)分離:支持的

          迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

          工作印章制作:支持的

           



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