進(jìn)口高真空離子濺射儀針對(duì)絕大多數(shù)掃描電鏡應(yīng)用，高真空模式或高分辨模式，要求樣品必須導(dǎo)電良好，否則樣品表面荷電造成圖像缺陷和分辨率惡化。在非導(dǎo)電絕緣材料表面制備1-10nm金屬導(dǎo)電膜層是常用的樣品處理手段，可采用離子濺射鍍膜法或熱蒸發(fā)鍍膜法，前者更為方便，使用更為廣泛，離子濺射儀在很多情況下是掃描電子顯微鏡實(shí)驗(yàn)室標(biāo)配。

進(jìn)口高真空離子濺射儀，采用磁控濺射方式，獲得超級(jí)精細(xì)膜層，廣泛用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡超高分辨觀察，或透射電鏡樣品制備碳支持膜，可用于其他高質(zhì)量鍍膜實(shí)驗(yàn)研究。采用陽(yáng)極保護(hù)柵網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程中樣品表面保持常溫狀態(tài)，沒(méi)有熱損傷。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能，可選配蒸碳附件。

主要功能：

1、精細(xì)、超精細(xì)離子濺射導(dǎo)電膜制備；專業(yè)級(jí)金屬膜層試驗(yàn)。

2、樣品等離子刻蝕清洗

3、蒸碳鍍膜

主要特點(diǎn)：

1、磁控濺射速度快。對(duì)于掃描電鏡或透射電鏡制樣，抽真空-濺射-泄真空3分鐘完成。

2、鍍膜質(zhì)量更高，可獲得精細(xì)晶粒膜層，膜層結(jié)合力強(qiáng)度高。可使用結(jié)晶更細(xì)小的金屬靶材。

3、對(duì)樣品無(wú)熱損傷的冷濺射。

4、樣品等離子刻蝕功能，一個(gè)手動(dòng)控制擋板降低樣片在刻蝕過(guò)程中受到的污染。

5、基于PLC的強(qiáng)大控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，可手動(dòng)、半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制。

6、真空高壓互鎖安全機(jī)制

7、標(biāo)準(zhǔn)的操作軟件，實(shí)時(shí)監(jiān)控各部件狀態(tài)，方便技術(shù)支持，節(jié)約用戶費(fèi)用。

性能指標(biāo)：

標(biāo)準(zhǔn)配置

樣品室：      φ150mm X 150mm(H) 不銹鋼真空室，帶觀察窗

靶：          金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM（隨機(jī)）φ50mmX0.1mm

樣品臺(tái)：      φ50mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

濺射電流：    0-100mA

真空規(guī)：      皮拉尼+熱電偶

濺射氣體：    氬氣

真空泵：      85L/Min 機(jī)械泵

             Pfeiffer 70 lps渦輪分子泵

             15分鐘抽到5E-6Pa 極限真空。獲得超高真空環(huán)境，提高鍍膜質(zhì)量

選配

膜厚監(jiān)控：    石英晶體膜厚監(jiān)控器

樣品臺(tái)：      φ75mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

             φ100mm旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)（選此臺(tái)，膜厚監(jiān)控器無(wú)法安裝）

             旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái) （選擇此臺(tái)，無(wú)法實(shí)現(xiàn)樣品刻蝕功能）

蒸碳附件：    碳棒或碳絲繩