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          PLUTO-MH 等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 上海沛沅儀器設(shè)備有限公司
          • 品牌 PLUTOVAC
          • 型號(hào) PLUTO-MH
          • 產(chǎn)地 上海市康橋東路1159弄91號(hào)
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2024/11/5 16:46:51
          • 訪問次數(shù) 1701

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          上海沛沅儀器是一家集等離子體技術(shù)設(shè)計(jì)、制造、產(chǎn)品開發(fā)、銷售與服務(wù)于一體的技術(shù)型企業(yè),公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng),比如等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子刻蝕機(jī),實(shí)驗(yàn)室等離子處理機(jī)等,向用戶提供國內(nèi)等離子表面處理設(shè)備和優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù)。

          公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)67%以上具備碩士或碩士以上學(xué)位,公司由長(zhǎng)期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)、多次參與國家重大科學(xué)工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設(shè)備等,并與中科院上海應(yīng)用物理研究所,復(fù)旦大學(xué),中國科技大學(xué),上??萍即髮W(xué),上海交通大學(xué)等建立了密切的技術(shù)合作交流關(guān)系。

           

          公司的愿景是成為等離子體應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)企業(yè),用科研的沉淀和應(yīng)用的創(chuàng)新,為中國的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻(xiàn)一份力量。

           

           

           

           

          等離子清洗機(jī),真空等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子表面處理機(jī),等離子刻蝕機(jī),實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī),小型等離子清洗機(jī),大氣等離子清洗機(jī),等離子鍍膜機(jī)

            PLUTO-MH等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)是種新型清洗設(shè)備,采用了等離子技術(shù),可以清洗各種物品。它具有環(huán)保節(jié)能等特點(diǎn),受到了廣大消費(fèi)者的青睞。其核心技術(shù)是等離子技術(shù)。等離子是一種高能態(tài)的物質(zhì),可以在較低的溫度下產(chǎn)生強(qiáng)大的清潔效果。該技術(shù)利用氣體分子間的碰撞和電子的激發(fā)來釋放能量,并以此來清洗物品表面的污垢。
           
            PLUTO-MH等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)(實(shí)驗(yàn)平臺(tái))特點(diǎn):
           
            針對(duì)于對(duì)等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場(chǎng)合中使用
           
            等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)
           
            采用500W功率電源,自動(dòng)阻抗匹配,高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對(duì)各種實(shí)驗(yàn)要求,保障高能量密度和高處理效率
           
            高精度真空度控制,適應(yīng)各種處理需求
           
            316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),全不銹鋼管路和連接件,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)
           
            4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,軟件操作方便,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式
           
            可增加多種配件,涂覆鍍膜,電極溫度控制,等離子體強(qiáng)度控制,等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能(如有特殊應(yīng)用,請(qǐng)咨詢銷售人員)
           
            根據(jù)用戶需求,提供對(duì)應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備
           

          等離子清洗機(jī)
           

            PLUTO-MH等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)(實(shí)驗(yàn)平臺(tái))參數(shù):
           
            真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
           
            電極:兩個(gè)自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)
           
            電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))
           
            等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz
           
            功率:0-500W連續(xù)可調(diào),自動(dòng)阻抗匹配,精度1W
           
            氣體控制:針式氣體流量閥,標(biāo)配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
           
            控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
           
            控制軟件功能:界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài),
           
            可顯示設(shè)置值與實(shí)際值,便于實(shí)時(shí)控制。
           
            可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時(shí)間
           
            多級(jí)操作權(quán)限,多種工藝參數(shù)組合控制,
           
            全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選
           
            保護(hù)裝置:一鍵急停保護(hù)按鈕
           
            (如需其他功能,請(qǐng)咨詢銷售人員)
           
            等離子清洗機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域:
           
            配置不同模塊,拓展不同應(yīng)用
           
            加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
           
            沉積鍍膜模塊,改變表面特性:
           
            沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性
           
            沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性
           
            沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果
           
            感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置
           
            氣體混合裝置
           
            可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)
           
            氣體純化和反應(yīng)
           
            氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng) 

          等離子清洗機(jī)



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